Occasion NANOMETRICS NanoSpec AFT 200 #9004058 à vendre en France

ID: 9004058
Film thickness measurement system.
NANOMETRICS Le NANOMETRICS AFT 200 est un masque haut de gamme et un équipement d'inspection de wafer produit par NANOMETRICS. Il est conçu pour détecter les défauts et autres irrégularités dans les masques et les plaquettes avec une précision de sous-micron. Sa combinaison unique de technologies optiques de pointe lui permet de produire des images précises de nanostructures complexes, tandis que ses capacités de numérisation et de traitement automatisés lui permettent d'offrir des débits élevés. Les composants principaux de l'AFT 200 comprennent l'optique principale, un détecteur d'angle de vision à large plage et le logiciel d'imagerie intégré. L'optique principale contient divers grossissements objectifs, faisceaux laser, et optique pour la détection de rétroflexion, lui permettant de produire des images de haute qualité de n'importe quel masque ou wafer. Son ouverture élevée et sa courte distance de travail garantissent également que le système peut accueillir un large éventail de tailles d'échantillons. Le détecteur grand angle de vue est utilisé pour capturer une image précise de l'échantillon, avec haute résolution et contraste. Il se compose d'une source d'éclairage, d'un objectif d'ouverture numérique et d'une caméra CCD. Cela permet à l'unité de capturer des images qui contiennent des détails à la fois grands et petits, ce qui le rend ultra-flexible pour les échantillons même les plus complexes. Enfin, le logiciel d'imagerie intégré permet aux utilisateurs d'effectuer un traitement d'image sophistiqué et une analyse des défauts sur les images capturées. Ce logiciel automatise les différentes étapes de l'analyse d'image, permettant une analyse rapide et précise des images et la détection de tout motif ou défaut irrégulier. NANOMETRICS AFT 200 est donc une machine puissante et fiable pour l'inspection des masques et des plaquettes avec une précision sous micron. Sa vaste gamme de technologies d'optique et d'imagerie lui permet de s'adapter à une gamme de tailles d'échantillons et de fournir une analyse précise des défauts. Les capacités automatisées de numérisation et de traitement lui permettent également d'offrir des débits élevés, ce qui en fait un outil inestimable pour tout outil d'inspection de masque et de plaquette.
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