Occasion NANOMETRICS NanoSpec AFT 210 #9086405 à vendre en France

NANOMETRICS NANOMETRICS AFT 210 Masque et Wafer L'équipement d'inspection NANOMETRICS est un instrument de métrologie avancée conçu pour l'inspection non destructive des dispositifs électroniques critiques. Le système est équipé d'une unité d'imagerie ultra haute résolution et d'une optique de microscope électronique à balayage (SEM) pour une imagerie rapide et précise. Il dispose d'une technologie de mise au point automatique unique qui permet des images ultra-pointues avec une précision et une répétabilité supérieures. Cette machine offre également des capacités de cartographie à grande vitesse, permettant l'imagerie, l'analyse et le diagnostic rapides d'un large éventail de matériaux. La gestion automatisée de l'outil comprend un processus automatisé d'alignement d'autofocus en 8 points, un étage de plaquette contrôlé de précision et un logiciel de reconnaissance de motifs. Avec ce modèle, l'opérateur peut facilement spécifier et ajuster les paramètres d'imagerie avec un minimum d'effort. La technologie AutoFocus à haute sensibilité assure un alignement précis des images, et son microscope électronique à balayage offre une résolution suprême avec la plus grande précision. NANOMETRICS NANOSPEC/AFT 210 supporte également de nombreuses capacités d'image et d'analyse différentes, y compris la cartographie des défauts de zone et l'analyse des champs lumineux et sombres. L'équipement permet une gamme d'options de segmentation d'image pour séparer et afficher les défauts pour l'analyse. De plus, il prend en charge l'étalonnage des clichés et l'alignement automatisé des masques. L'AFT 210 dispose également d'un logiciel puissant. Sa suite logicielle contient une suite intégrée d'outils de mesure et d'analyse, tels que l'analyse statistique et les scripts intégrés pour l'optimisation des processus. Ces outils permettent d'extraire des informations métrologiques détaillées à partir d'images. Il dispose également de puissantes capacités de connexion réseau, permettant le partage des résultats en temps réel. Dans l'ensemble, NANOSPEC/AFT 210 est un système puissant, économique et simple à utiliser pour l'inspection des masques et des plaquettes. Il offre une gamme de capacités de métrologie avancées, telles que l'alignement automatique d'autofocus à 8 points, l'optique de microscopie à haute sensibilité et les capacités de cartographie des défauts de zone. Il dispose également d'une suite logicielle robuste avec une large gamme d'outils de mesure et d'analyse. C'est un choix idéal pour les professionnels de la fabrication et de la métrologie.