Occasion NANOMETRICS NanoSpec AFT 210 #9226128 à vendre en France

NANOMETRICS Le nanometrics AFT 210 est un équipement robuste et sophistiqué d'inspection des masques et des plaquettes. Conçu et fabriqué par NANOMETRICS, leader mondial de l'industrie des équipements de métrologie optique, le système offre des fonctionnalités et des capacités avancées pour aider les utilisateurs à détecter les défauts de lithographie sur les surfaces des plaquettes et des masques. En plus de ses performances optiques de pointe, l'unité fournit également des capacités d'alignement et d'alignement utiles pour permettre des opérations de masquage de précision. La machine se compose de plusieurs composants, dont un logiciel de métrologie intégré, deux caméras haute résolution et un ensemble d'éclairage personnalisé. Le logiciel fournit aux utilisateurs des systèmes puissants, flexibles et faciles à utiliser pour l'acquisition d'images, l'analyse et la métrologie. Les caméras supportent les mesures HiSIM, HiMTF et Overlay, et leurs capacités de haute résolution les rendent idéales pour l'inspection des masques à haut débit et des matrices de plaquettes. L'ensemble d'éclairage personnalisé fournit une lumière intense et uniforme pour garantir les images et les résultats de la plus haute qualité L'outil dispose de quatre modes de mesure, y compris Masque Photocurrent, Qualité du revêtement et Contrôle du film de résistance. Le mode Masque Photocurrent inspecte la plaquette pour détecter les aberrations, tandis que le mode Qualité du revêtement examine la couche extérieure de la plaquette. Le mode d'inspection du film résiste aide à identifier les défauts ou les changements dans la couche de résiste. L'actif prend également en charge une variété de formats de fichiers différents, ce qui le rend idéal pour une utilisation avec une gamme de logiciels. Le modèle offre également un mécanisme de focalisation avancé, qui effectue des mesures cohérentes et répétables sur l'ensemble du masque ou de la plaquette. D'autres caractéristiques comprennent des mesures d'alignement de superposition réticule-réticule, ainsi que la précision d'alignement et les capacités d'analyse. L'équipement dispose également du logiciel NANOMETRICS AssistIQ, qui fournit aux utilisateurs un processus d'analyse d'image guidé et intuitif. Dans l'ensemble, NANOMETRICS NANOSPEC/AFT 210 est un système d'inspection de masque et de plaquettes extrêmement sophistiqué et précis. Ses fonctionnalités avancées fournissent des images de haute qualité et des résultats de pointe, aidant les utilisateurs à détecter rapidement et avec précision les défauts ou les défauts de lithographie. Son logiciel flexible et facile à utiliser permet aux utilisateurs d'utiliser correctement l'unité dans n'importe quel environnement.