Occasion NANOMETRICS NanoSpec AFT 210 #9280739 à vendre en France

NANOMETRICS Nfor Spec AFT 210 est un équipement complet d'inspection des masques et des plaquettes pour la métrologie frontale, la détection des défauts et l'analyse des caractéristiques. Conçu pour la fabrication de semi-conducteurs, ce système offre une plate-forme facile à utiliser pour automatiser les processus d'inspection. Cette plate-forme dispose de petites capacités d'analyse de pièces pour des plaquettes aussi petites que 25 mm. L'unité utilise la technologie de détection de déplacement à l'échelle nanométrique pour mesurer les défauts de photolithographie, les profils de surface et d'autres caractéristiques sur les IC, les micro-pièces et d'autres composants. La machine prend également en charge la détection des défauts à l'échelle nanométrique, en utilisant des fonctions telles que l'analyse du courant, l'inspection des pannes optiques et l'analyse de l'empreinte. NANOMETRICS NANOSPEC/AFT 210 offre une gamme de fonctions d'analyse et de mesure d'images pour améliorer ses capacités. Un outil de fusion/séparation intégré permet de corréler les images des plaquettes avec leurs paramètres de composants. Les algorithmes de détection de bord aident à améliorer la précision des mesures de caractéristiques, tandis qu'une bibliothèque de défauts quantitatifs intégrée offre une aide visuelle pratique pour la mise en place et l'analyse des conditions de mesure et de défaut. L'interface de l'actif est conviviale, permettant aux opérateurs de sélectionner facilement les paramètres, de visualiser les données collectées et d'analyser les résultats. Il fournit également un mode d'examen automatisé des défauts pour rationaliser le contrôle de la qualité. Il est équipé d'une fonction AutoFocus haute vitesse pour l'imagerie fiable, et d'une fonction de mesure multi-angles équipée qui permet de mesurer jusqu'à deux angles simultanément. Le modèle dispose également de modes d'inspection configurables pour assurer la précision et la fiabilité. L'AFT 210 offre une solution efficace et complète pour l'inspection des masques et des plaquettes. Ses capacités de détection des défauts à l'échelle nanométrique, son interface conviviale, sa fonction haut débit AutoFocus et ses vastes capacités d'analyse et de mesure d'images en font une plate-forme fiable et efficace pour l'inspection de la qualité dans le processus de fabrication des semi-conducteurs.