Occasion NANOMETRICS NanoSpec AFT 2100 #9100828 à vendre en France

NANOMETRICS NanoSpec AFT 2100
ID: 9100828
Taille de la plaquette: 6"
Film thickness analyzer, 6".
NANOMETRICS Nfor Spec AFT 2100 est un puissant système d'inspection des masques et des plaquettes qui fournit une imagerie supérieure pour une gamme de types de plaquettes semi-conductrices. Il est conçu pour répondre aux exigences des technologies de procédés semi-conducteurs les plus exigeantes, y compris les applications multi-tissages, la lithographie avancée et les applications basées sur EUV. L'AFT 2100 offre une résolution et une fidélité d'imagerie sans précédent, ce qui permet d'effectuer des tests et des inspections de série avec précision et efficacité. Le système est équipé d'une colonne optique à deux faisceaux, qui assure l'imagerie simultanée du haut et du bas de la plaquette, permettant ainsi le contrôle simultané des défauts. Il offre également une sensibilité supérieure pour les défauts de faible contraste et dispose d'une optique spéciale qui permet de détecter les défauts de taille inférieure à 20nm. NANOMETRICS Le nanometrics AFT 2100 est capable d'acquérir et de traiter des types de plaquettes standard, comme les plaquettes 8 « , 12 » et 16 «, ainsi que de fonctionner sur des plaquettes de métrologie spécialisées jusqu'à 21 » de diamètre. Il est équipé d'un certain nombre de caractéristiques telles qu'une phase de tournage à grande vitesse, une capacité de focalisation automatique et un profilage d'image tridimensionnel pour améliorer la qualité et la précision de l'image. L'AFT 2100 est également équipé d'une suite logicielle avancée d'analyse des défauts qui automatise les inspections de routine et aide à réduire les taux de fausses alarmes. Les algorithmes intégrés de classification des défauts permettent l'analyse et la classification des défauts, classant de 0 à 5. Il dispose également d'une option d'analyse automatisée qui peut être utilisée rapidement pour repérer et isoler des défauts spécifiques tels que la contamination, les défauts de motif, et les dommages FIB. Les caractéristiques d'imagerie avancées de NANOMETRICS Nérabilité Spec AFT 2021 en font le choix idéal pour les opérations d'inspection des masques à semi-conducteurs et des plaquettes. Il offre une résolution et une fidélité d'imagerie supérieures, ainsi qu'une analyse et une classification automatisées des défauts. Il dispose également de fonctionnalités avancées telles que la rotation rapide des étages, les capacités d'auto-focus et le profilage d'image tridimensionnel pour garantir une qualité et une précision d'imagerie supérieures.
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