Occasion NANOMETRICS NanoSpec AFT 4150 #9057372 à vendre en France

NANOMETRICS Le nanometrics AFT 4150 est un équipement sophistiqué d'inspection des masques et des plaquettes. Le système est conçu pour fournir une imagerie de haute qualité avec une précision nanométrique pour les caractéristiques de taille de semi-conducteur. Les innovations de l'unité permettent une résolution sous-micron pour les petites et grandes caractéristiques sur divers types de masques et de plaquettes. L'AFT 4150 utilise la technologie brevetée AutoFocus - AFT - qui améliore considérablement la résolution et la répétabilité de la machine. Le contrôle automatique de l'objectif garantit que même les plaquettes plus fines restent au point tout au long du balayage. Cela permet une imagerie à plus haute résolution avec moins de temps de cycle. S'inspirant de l'expertise avancée en imagerie lithographique de NANOMETRICS, l'AFT 4150 dispose de la technologie Perfect Scan comme outil de balayage à plusieurs niveaux. Perfect Scan Technology utilise un algorithme précis de numérisation à plusieurs niveaux pour identifier et numériser les caractéristiques avec la plus haute résolution - aussi basse que 1.5nm - à chaque emplacement d'image. L'algorithme de numérisation utilise des algorithmes brevetés de traitement d'image pour identifier rapidement les caractéristiques pour un balayage efficace et précis. L'étage XY-theta cinq axes de l'AFT 4150 et la tête de balayage piézo-entraînée fournissent une imagerie 3D et une précision d'alignement sous micron pour isoler les défauts et détecter les bords avec une résolution nanométrique. Une image aérienne est collectée à travers l'objectif. Cette image fournit le besoin exact pour la localisation des défauts et la révision des défauts. NANOMETRICS NANOSPEC/AFT 4150 L'inspection isolée par endroits humides/secs ouvre la voie à une meilleure détection des défauts avec identification de la signature exacte du défaut, de son emplacement précis et de sa morphologie. L'analyse d'image améliorée et les fonctions avancées de détection des défauts permettent d'identifier même les plus petits défauts. L'actif est conçu pour un fonctionnement rapide et un faible entretien. La technologie de modélisation de l'intensité de l'image brevetée NANOMETRICS modélise avec précision l'intensité de l'image, qui est utilisée pour l'identification et la classification automatiques des défauts. L'AFT 4150 peut être utilisé pour inspecter une grande variété de types de masques et de plaquettes, y compris les substrats MEMS, silicium et céramique. Un large éventail de formats d'image communs peut être géré directement par le modèle, y compris le BMP, le PPM et le TIFF. L'AFT 4150 est très évolutif et peut être facilement mis à niveau pour traiter de plus grandes zones avec une résolution plus élevée. L'équipement est également conçu pour un confort maximal de l'opérateur avec un poste de travail réglable en hauteur, un grand écran LCD et des commandes tactiles. L'AFT 4150 est l'outil parfait pour l'inspection des masques et des plaquettes. Son analyse d'image très avancée et sa détection automatique des défauts garantissent une imagerie de la plus haute qualité sur une gamme de substrats et avec une précision de sous-microns. La conception robuste du système et l'interface utilisateur intuitive en font un choix idéal pour les laboratoires de production et les installations de recherche.