Occasion NANOMETRICS NanoSpec AFT 5100 #9266970 à vendre en France

NANOMETRICS Le matériel d'inspection de masque et de wafer de Nanometrics AFT 5100 est un outil automatisé de métrologie haute résolution conçu pour la fabrication de semi-conducteurs. L'AFT 5100 dispose d'un système général générique de reconnaissance des motifs pour une inspection précise et fiable des motifs avec des capacités qualitatives et quantitatives. Il comprend également un module avancé d'optique microscopique, qui peut mesurer avec précision plusieurs paramètres z-hauteur de motif et de surface avec la résolution la plus élevée de < 50nm. Les fonctions de métrologie automatisées de l'unité permettent une inspection des motifs haute vitesse et haute précision, avec une configuration facile et un fonctionnement simple. La machine offre un large choix de technologies d'imagerie, y compris le champ lumineux, le champ noir ainsi que l'éclairage polarisé, permettant une capacité d'imagerie améliorée pour une variété d'applications de propreté. Il comprend un module d'éclairage macro/micro-structure optimisé pour diverses interfaces de structures, ce qui permet d'améliorer la qualité de l'image et d'analyser les détails. En outre, l'outil dispose d'un algorithme unique qui détecte et masque intelligemment les détails de bord de test, pour faciliter la quantification précise des rayures, des ruptures et des largeurs de ligne. L'actif permet également de mesurer avec précision les tailles et les emplacements des défauts, et le masque avancé Réparation, une technologie pour la réparation automatique des défauts. Il offre des corrections de superposition multicolores pour assurer l'uniformité du contraste dans diverses images colorées, et la coupe optique 3D. NANOMETRICS Nérabilité Spec AFT 5100 est livré avec un logiciel intuitif et convivial, qui permet à l'utilisateur de contrôler facilement le modèle, d'observer les résultats des tests en temps réel, de sélectionner, de configurer et d'optimiser les paramètres de mesure et d'exporter les données. En outre, l'équipement comprend une base de données intégrée pour le stockage des données de mesure, qui peut être facilement accessible pour une utilisation ultérieure. En résumé, le système d'inspection Masque et Wafer de l'AFT 5100 est un outil de métrologie efficace pour la fabrication de semi-conducteurs, offrant un ensemble unique de caractéristiques pour une inspection facile et précise des masques et des wafers. Il offre diverses technologies d'imagerie, des corrections de superposition multicolores, et une capacité avancée de réparation de masque pour une meilleure précision de mesure. L'unité fournit également une interface utilisateur graphique intuitive et conviviale, ce qui la rend facile à utiliser et permet d'obtenir des résultats de métrologie de haute précision.