Occasion NANOMETRICS NanoSpec AFT 6100 #9276360 à vendre en France
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ID: 9276360
Film thickness measurement system
Handler: OLYMPUS AL110 Series Auto loader
Up to (3) layers
Reproducibility: <1Å UV, 2Å (Visible)
Measurement time: 0.5 to 3 sec/site
Data management: 2D and 3D Mapping, diameter scan
Communication kit: SECS II
Data export: ASCII
Wave length range:
400 to 800 nm
210 to 800 nm
Film thickness range:
250Å to 20µm (Visible)
40Å to 20µm (UV and visible)
Components:
Optics stand
Monitor
Key board
Track ball
Joy stick
Hardware configuration:
Wafer size: 75 mm to 200 mm
Optics: 4x, 10x, 15x (UV), 40x
Spot size: 50, 20, 18 (UV), 5.5 µm
PC Computer with high capacity drives
Power supply: 117 ±5% VAC, 50/60 Hz, 5 A.
NANOMETRICS Nfor Spec AFT 6100 est un masque de précision et un équipement d'inspection des plaquettes conçu pour assurer un rendement optimal du produit en détectant des défauts de fabrication aussi petits qu'un seul nanomètre. Il peut détecter pratiquement n'importe quel problème, y compris les désalignements, le manque de couverture de processus, les défauts de processus de gravure, les fissures de plaquettes, le désalignement des caractéristiques, et d'autres anomalies. L'AFT 6100 de Nérabilité Spec fonctionne en prenant des images ultra haute résolution de motifs de masque et de plaquettes ainsi que des cartes de défauts. Ceci est ensuite utilisé pour analyser les caractéristiques au niveau du nanomètre, fournissant des informations détaillées sur les modèles de défauts, l'emplacement et la taille. Il aide également à mesurer la précision de la fonction photomask, la précision de placement et d'alignement, et l'intégrité du motif. L'AFT 6100 dispose d'un appareil photo haute résolution pouvant atteindre 50 mégapixels et d'un système d'acquisition d'image numérique breveté, qui permet de détecter de très petits défauts. L'architecture logicielle de l'unité comprend un puissant moteur de capture d'image et de détection de défauts, des outils flexibles d'analyse et de comparaison de données, et des capacités de déclaration étendues. La machine a une capacité de zoom jusqu'à 332X, ce qui permet d'utiliser un niveau élevé de grossissements pour visualiser les défauts localisés. Il est équipé de mandrins transparents qui sont utilisés pour imposer la planéité et la précision de placement d'une plaquette ou d'un masque. NANOMETRICS Nérabilité Spec AFT 6100 dispose également d'un outil d'alignement optique automatisé qui permet d'aligner rapidement un photomasque sur le modèle de wafer, ce qui permet de réduire le temps d'inspection. L'AFT 6100 offre un outil d'inspection très flexible et fiable avec une précision et une précision élevées. Son interface graphique intuitive permet également aux utilisateurs de trouver et de comprendre rapidement les informations de défaut. Le modèle peut être utilisé pour la production, la qualification et le développement de processus à de nombreux niveaux différents, de la filière unique au niveau de l'équipement. L'AFT 6100 est facile à utiliser et offre une variété d'options de personnalisation pour répondre à des besoins spécifiques. C'est un outil essentiel pour tout processus de fabrication de plaquettes qui nécessite une précision et des détails extrêmes dans les capacités de fixation et d'inspection.
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