Occasion NANOMETRICS Orion #9217790 à vendre en France

NANOMETRICS Orion est un équipement révolutionnaire d'inspection de masque et de plaquettes qui permet aux utilisateurs de mesurer la topographie de surface et les paramètres géométriques d'une large gamme de dispositifs semi-conducteurs. C'est le choix idéal pour les fabricants qui doivent inspecter les plaquettes et les masques avec un niveau de précision extrêmement élevé. Au cœur du système se trouve sa technologie exclusive de balayage et d'échantillonnage qui utilise des caméras haute résolution et des sources lumineuses modulées pour analyser les caractéristiques des échantillons. Un capteur d'imagerie plein-cadre capture des images de vues multiples de l'échantillon avec un contraste élevé. L'unité utilise des algorithmes propriétaires pour capturer et analyser les images, fournissant une caractérisation à haute résolution de la topographie de surface de l'échantillon et des caractéristiques physiques en peu de temps. Orion intègre également un module avancé de conditionnement du signal multicanal qui permet à la machine de mesurer quatre paramètres de surface simultanément. Le module mesure la planéité angulaire des pointes de surface, des parties en saillie de surface, des variations d'épaisseur ou de la distance entre les extrémités des structures de surface. Il mesure également la hauteur maximale de saillie de la structure de surface et les sections transversales du signal de l'échantillon dans plusieurs directions. L'outil est équipé d'une interface utilisateur graphique intuitive qui permet aux opérateurs de configurer rapidement les tests, de sélectionner les paramètres de mesure, de mesurer les caractéristiques des échantillons et de visualiser les résultats en temps réel. Le logiciel offre également de puissants outils de calibration et une variété de configurations d'outillage. Toutes les mesures obtenues avec le masque NANOMETRICS Orion et le matériel d'inspection des plaquettes sont assorties d'un niveau élevé de précision et de répétabilité. Le modèle est conçu pour répondre aux exigences les plus strictes et exigeantes pour les applications industrielles et de laboratoire. Il offre une solution complète pour la caractérisation de la surface des masques et des plaquettes, y compris la topographie, SPI, SEM, AFM, SEM-EDX ou OWLS.