Occasion NANOMETRICS Spark-300 #9352204 à vendre en France

NANOMETRICS Spark-300
ID: 9352204
Style Vintage: 2012
Metrology system 2012 vintage.
NANOMETRICS Spark-300 est un équipement « masque & wafer inspection », doté d'une technologie de métrologie haute résolution qui garantit une précision et une qualité de fonctionnement exceptionnelles dans les processus modernes de production de semi-conducteurs. Ce système est spécifiquement conçu pour faciliter les structures automatisées de tâches de mesure sur les cartes de circuits imprimés, les plaquettes semi-conductrices et autres petits composants. Spark-300 offre une variété de technologies et de fonctionnalités de balayage automatisé qui rendent l'unité idéale pour l'analyse précise de la métrologie. La machine comprend un objectif en quartz avec un grand champ de vision, des capteurs photoélectriques à haute sensibilité, des logiciels dédiés et des algorithmes de reconnaissance de fonctionnalités. Le détecteur laser intégré et une variété de configurations optiques permettent d'assurer une analyse précise et précise des composants inspectés. L'outil dispose également d'un atout de livraison d'éclairage nouvellement conçu, offrant une flexibilité absolue en termes d'éclairage et une taille de motif réglable dans la gamme de 8x8 à 150x150 mm. Cela permet à l'utilisateur de basculer entre différentes sources d'éclairage, ce qui permet d'analyser des composants plus importants. Le modèle NANOMETRICS Spark-300 offre plusieurs fonctions analytiques, notamment la détermination de paramètres de travail (épaisseur de couche, forme du circuit, taille, etc.), la comparaison d'images numériques, l'analyse de retravaillement et bien plus encore. L'équipement fonctionne sur une interface utilisateur graphique interactive (interface graphique) conviviale. L'interface graphique permet aux utilisateurs de visualiser des images monochromatiques et binaires, de mesurer l'épaisseur des couches et d'analyser les paramètres en temps réel. L'interface utilisateur graphique permet également de récupérer et d'analyser facilement et efficacement les données. Une trousse d'inspection facultative est disponible qui augmente encore la performance du système. La trousse comprend un échantillon cible et des échantillons d'essai ainsi qu'une application d'analyse du traitement des données pour des essais et des analyses plus approfondis. Dans le résumé, l'Étincelle la 300 unité d'inspection de gaufrette et de masque offre la précision supérieure et l'exactitude pour l'analyse de métrologie automatisée dans les processus de production de semi-conducteur modernes. La machine est alimentée par la dernière technologie de balayage et d'inspection, avec des configurations innovantes d'éclairage et d'optique pour améliorer les performances. L'outil est facile à utiliser et rentable, ce qui en fait un choix idéal pour des tâches d'inspection et d'analyse automatisées.
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