Occasion NANOMETRICS Vertex #9379059 à vendre en France

NANOMETRICS Vertex est un système d'inspection de masques et de plaquettes conçu pour soutenir les nœuds de processus avancés et les applications, y compris la technologie finFET. Il est équipé d'opérations d'image avancées et de capacités de reconnaissance de motifs avancées. Le système peut être utilisé pour améliorer la détection des défauts critiques dans les processus de lithographie des plaquettes pour les couches actives et passives. Il se compose d'un moteur d'acquisition d'images unique qui peut acquérir des images haut et bas avec une uniformité et une netteté de luminosité totale, combiné à un module optique haute performance qui fournit un éclairage uniforme et une excellente qualité d'image. Vertex peut également être configuré avec plusieurs capacités d'exploitation d'images avancées, dont l'une est une technique brevetée d'intersection d'images (IIT) qui permet de détecter un revêtement antireflet conforme (CARC) ainsi que des caractéristiques de sous-résolution comme des micro-ponts et des flaques de défaut. Il est également livré avec un module d'appariement analytique (AMM), qui est un processus assisté par ordinateur pour l'identification et la classification des défauts. Le système a également été conçu avec une capacité de stockage de données à grande vitesse, un moteur d'identification des défauts à plusieurs étages à bord pour une efficacité et une précision accrues, et des fonctionnalités pour permettre la révision et l'annotation automatiques des défauts. En outre, il peut être configuré avec des moteurs d'acquisition et d'analyse de données pour l'analyse des pannes, menu déroulant pour un fonctionnement et une configuration faciles, et différents modules de tête de caméra pour diverses applications. Enfin, NANOMETRICS Vertex peut être intégré à une large gamme de solutions d'automatisation pour la révision et l'annotation automatisées des défauts, le suivi des défauts et l'analyse des tendances. Il prend également en charge le tri et le séquençage automatisés des défauts pour une variété de couches de plaquettes et d'opérations de métrologie.