Occasion NAPSON NC-3000F #9123347 à vendre en France

NAPSON NC-3000F est un puissant équipement d'inspection des masques et des plaquettes conçu pour augmenter la qualité et réduire les coûts de fabrication des semi-conducteurs. Le système offre une capture complète et simultanée des caractéristiques du masque et de la plaquette, en utilisant l'inspection optique automatique et de précision et la surveillance des motifs du masque et de la plaquette. L'unité utilise une technologie de pointe propriétaire combinée à une configuration matérielle modulaire et des solutions industrielles, permettant d'améliorer les performances qualitatives et quantitatives. La machine fonctionne avec trois composants primaires, un imageur optique de précision combiné avec un paquet optique spécial et une vaste bibliothèque logicielle de collecte de données. NC-3000F utilise un outil d'imagerie propriétaire avec une gamme dynamique élevée, un rapport signal/bruit élevé et une excitation laser économe en énergie pour une résolution et une gamme dynamiques inégalées. Le paquet optique dispose d'une double capacité d'exposition, permettant une inspection simultanée du masque et de la plaquette. La vaste bibliothèque de données comprend des logiciels entièrement automatisés et personnalisables qui permettent une analyse complète et la génération de rapports personnalisables. NAPSON NC-3000F dispose également de multiples modes d'inspection, y compris l'inspection automatisée des masques (AMI), l'enregistrement masque-wafer (MWR) et les essais optiques en vol (OFT). AMI fournit une évaluation à grande vitesse des motifs de masque, à la fois de haut et de bas, et offre le choix de l'inspection automatique planaire et/ou 3D. MWR aligne automatiquement les motifs de masque et de plaquette pour améliorer la précision et la qualité. L'OFT permet la réalisation automatisée de multiples essais en vol optiques non destructifs sur les modèles d'échantillons, fournissant à l'utilisateur des données fiables et répétables. L'actif comprend également un quatre axes, XYZ-theta Stages permettant l'alignement de haute précision des structures de masque et de plaquette, la réduction des coûts associés à la vérification des données de masque et le temps de processus de correction et l'amélioration du rendement. L'alignement automatisé permet la répétabilité, la stabilité, la précision et la précision. De plus, le modèle dispose de métrologie avancée d'interférence des sources lumineuses pour des performances et une caractérisation précises. L'équipement HSSPM (High-Speed Pattern Matching) offre une précision et une répétabilité de reconnaissance des motifs. NC-3000F est un outil efficace et polyvalent, offrant une gamme complète de capacités d'imagerie, d'enregistrement et d'inspection. Il est conçu pour économiser des coûts et augmenter la qualité des procédés de fabrication des semi-conducteurs. Ce système est adapté à un large éventail d'applications en laboratoire et dans les environnements industriels et est conçu avec le plus haut niveau de sécurité et de fiabilité.