Occasion NAPSON RC-2PN #9301381 à vendre en France

L'équipement NAPSON RC-2PN Masque et Wafer Inspection est une machine d'inspection très précise conçue pour l'évaluation des écrans plats (FDF) et autres dispositifs semi-conducteurs. Ses caractéristiques uniques en font un choix idéal pour inspecter des produits avec de petits motifs et des caractéristiques de taille, ainsi que des inspections de qualité haute résolution. L'unité est conçue pour améliorer la productivité, réduire les coûts et garantir les normes de produits de la plus haute qualité. RC-2PN Masque et Wafer Inspection système intègre une caméra haute résolution, un microscope optique inversé, et un écran LCD de 8 pouces. La caméra est équipée d'un objectif de focalisation automatique de haute précision et d'un algorithme de traitement d'image rapide pour offrir une précision et une qualité d'image maximales. Le microscope optique inversé permet l'inspection de divers matériaux tels que masque OPM, métal et polyimide. Le moniteur LCD de 8 pouces permet une plus grande zone de visualisation pour aider les opérateurs à identifier facilement les anomalies ou les défauts. L'unité NAPSON RC-2PN Masque et Wafer Inspection peut inspecter avec précision les petits motifs et les caractéristiques aussi petits que 0,2 µm sur une variété de surfaces. Il fournit également une analyse d'image approfondie avec des algorithmes avancés de détection de bord pour l'inspection précise de structures complexes. Il supporte également une gamme de superpositions d'images, ce qui permet d'analyser et de comparer différents motifs et surfaces. La machine comprend diverses fonctions complètes pour l'inspection automatisée de die-to-die, ainsi que l'inspection étape-et-répétition. L'outil permet l'enregistrement précis des échantillons pour les FDD non uniformes et non carrés. Il dispose également d'une fonction de suivi pour aligner les décès individuels facilement et avec précision. L'actif permet également la filature pour le tri des décès en fonction de leur qualité. RC-2PN Masque et Wafer Inspection modèle a un seuil de défaut très bas pour la véritable détection de défaut. Il dispose d'un algorithme de reconnaissance des caractéristiques de défaut pour s'assurer efficacement que seuls les vrais défauts sont détectés. L'équipement a également une capacité mémoire de 128M ce qui permet une réduction significative des temps de contrôle. Bref, NAPSON RC-2PN Mask & Wafer Inspection System est une machine polyvalente conçue pour une utilisation optimale dans l'inspection des écrans plats et autres dispositifs semi-conducteurs. Ses caractéristiques uniques en font un excellent choix pour atteindre une qualité maximale de produit d'une manière rentable et efficace.