Occasion NAPSON RT-70 #9241798 à vendre en France

NAPSON RT-70 Masque & Wafer Inspection Equipment est un système d'imagerie de pointe conçu pour détecter avec précision les défauts des masques et des plaquettes de lithographie. L'unité utilise l'imagerie haute résolution, ainsi que des algorithmes avancés de reconnaissance de motifs pour identifier et classer précisément divers types de défauts. RT-70 machine est idéale pour une utilisation dans les environnements industriels, universitaires et de laboratoire. Il utilise un laser UV pour scanner le masque ou la plaquette, générant des images 3D de masques ou de plaquettes individuels. Une caméra numérique capture alors ces images, ainsi qu'une description de l'intensité et de la résolution spatiale des images. L'outil peut détecter à la fois les gros et les petits défauts, y compris les particules, les trous d'épingle et les défauts granulaires. En outre, il peut identifier les erreurs de lithographie telles que le pas, les emplacements de bord, les largeurs de ligne, les espaces et les profils de ligne. Il peut également détecter des variations dans l'exposition ou la focalisation de l'image, ainsi que la contamination et les distorsions. Toutes ces fonctionnalités font de NAPSON RT-70 un outil puissant pour l'inspection des masques et des plaquettes. L'interface est conviviale, permettant une configuration et une utilisation faciles de l'actif. Les paramètres tels que la résolution, le zoom et le rapport de contraste peuvent être ajustés en quelques secondes. En outre, RT-70 est équipé d'une variété d'outils d'imagerie avancés, tels que la cartographie des couleurs, le transfert de coordonnées, l'alignement et la reconnaissance de motifs. Il est ainsi plus facile d'identifier de petits défauts, tels que des particules et des trous d'épingle. Le modèle est également compatible avec une variété de logiciels de CAO et de lithographie, permettant une intégration transparente de NAPSON RT-70. RT-70 Masque et Wafer Inspection Equipment est une solution tout-en-un pour l'inspection de masque et wafer. Il est capable de détecter avec précision une variété de défauts dans les masques de lithographie et les plaquettes, et ses outils d'imagerie avancés en font un outil puissant pour identifier même les plus petits défauts. De plus, sa compatibilité avec divers logiciels de CAO et de lithographie garantit une intégration réussie avec les applications existantes.