Occasion NIKON Optistation II #9307809 à vendre en France

NIKON Optistation II est un équipement d'inspection de masques et de plaquettes conçu pour la production lithographique. Grâce à sa technologie d'éclairage et d'imagerie de pointe, il permet des mesures fiables et de haute précision avec des niveaux de bruit extrêmement bas pour des applications dans l'industrie microélectronique. Le système dispose d'un module d'éclairage transmis par champ lumineux qui fonctionne comme une source lumineuse pour les applications d'imagerie. Il offre un excellent contraste pour l'imagerie claire et les signaux sans interférence entre le détecteur et le motif. Sa structure robuste et stable est conçue pour rester uniforme sur une large plage de champ de plus de 200 µm. L'unité d'inspection comprend également un étage maXelerator facile à utiliser qui assure un mouvement rapide, lisse et un positionnement précis et reproductible. Il est capable de scanner de grandes surfaces, comme une plaquette complète en un seul mouvement, tout en calculant avec précision les points intermédiaires le long du chemin. Optistation II offre une gamme de capacités avancées d'analyse quantitative d'images pour la détection précise et répétable des défauts. Il peut reconnaître une variété de paramètres tels que la largeur de la ligne, la position du bord, la rugosité de la ligne et la taille du défaut pour une mesure et un diagnostic précis. La machine est basée sur une technique d'exposition unique, d'alignement rapide qui permet à l'utilisateur d'identifier, d'aligner et de mesurer rapidement les motifs défensifs sur les plaquettes. Il est équipé d'une technologie de mesure intégrée qui est associée à un balayage à grande vitesse sans faille sous contrôle logiciel pour optimiser le débit et la précision. Dans l'ensemble, NIKON Optistation II fournit un masque puissant et fiable et un outil d'inspection des plaquettes qui permet d'inspecter efficacement les images de motifs avec une grande précision. Il est également capable de rechercher rapidement et de mesurer avec précision les motifs défensifs sur des plaquettes sous contrôle logiciel. Avec sa conception robuste et sa technologie d'imagerie avancée, c'est une solution idéale pour la production lithographique.