Occasion OLYMPUS KIF-10W #9395780 à vendre en France

OLYMPUS KIF-10W est un équipement avancé d'inspection de masques et de plaquettes capable de fournir une capture et une analyse d'image de haute précision. Il s'agit d'un système d'inspection polyvalent adapté à la fois au laboratoire et à l'industrie. L'unité est conçue pour analyser et mesurer les caractéristiques du masque et de la plaquette rapidement et avec précision en combinant l'imagerie plein champ lumineux et la capture d'image numérique. La machine dispose d'un outil d'éclairage Kohler haute puissance et d'un capteur 4 mégapixels qui offrent des capacités d'imagerie très précises et rapides. KIF-10W actif est conçu pour mesurer avec précision les caractéristiques d'un masque ou d'une plaquette telles que les largeurs de ligne, les dimensions critiques et la topographie de surface. Il est capable de capturer des images jusqu'à 64 mégapixels et peut détecter les défauts les plus subtils avec un haut niveau de précision. Le modèle haute puissance est bien équipé pour gérer plusieurs tailles d'échantillons avec un large champ de vision et des images haute résolution. Il dispose également d'un projecteur à haute vitesse et de l'amélioration dynamique de l'image, assurant une excellente qualité d'image pour les échantillons complexes. OLYMPUS KIF-10W dispose d'une interface logicielle intuitive, permettant aux utilisateurs d'accéder et de contrôler rapidement et facilement tous les paramètres de capture et d'analyse d'images. Pour l'analyse des plaquettes, l'équipement offre une gamme complète d'outils d'imagerie et d'analyse, tels que la cartographie 3D, la détection des bords, le profilage des lignes métalliques minces et les mesures de déviation des bords. Il permet également aux utilisateurs de se concentrer sur des zones spécifiques et d'effectuer un zoom et un pannage manuels. En outre, KIF-10W comprend une recherche automatisée des défauts avec une bibliothèque intégrée d'algorithmes d'apprentissage des défauts. Cela permet aux utilisateurs de classer et caractériser rapidement les défauts avec un filtre d'imagerie numérique capable de trouver et d'enregistrer les défauts les plus complexes. En outre, le système fournit une classification automatique des défauts avec une fonction de génération de rapports en temps réel, permettant aux utilisateurs d'obtenir rapidement et facilement une compréhension complète de l'état de leur échantillon. Dans l'ensemble, OLYMPUS KIF-10W est un masque de haute performance et une unité d'inspection des plaquettes qui est conçu pour une inspection et une analyse rapides, précises et fiables des puces et des circuits. Ses capacités d'imagerie haute résolution combinées à ses commandes intuitives en font une option idéale pour les paramètres de laboratoire et industriels.