Occasion OLYMPUS KIF-201 #9271417 à vendre en France

OLYMPUS KIF-201 est un équipement leader d'inspection des masques et des plaquettes conçu pour l'industrie des semi-conducteurs. Il est conçu pour répondre aux exigences de précision les plus élevées pour un relevé topographique complet des caractéristiques tridimensionnelles sur les surfaces des masques et des plaquettes. Ce système combine une technologie avancée de balayage laser, pour générer des images détaillées de haute résolution des caractéristiques tridimensionnelles sur le masque et la plaquette avec une interface utilisateur intuitive pour créer un flux de travail puissant et efficace pour les inspections de contrôle de la qualité. KIF-201 utilise une fente de balayage laser qui est balayée le long d'un chemin prédéfini à travers la surface du masque et de la plaquette, permettant des mesures extrêmement précises. La fente est composée de lumière laser hélium-néon et d'un dispositif d'imagerie avec jusqu'à 28,2 muW de sensibilité. La fente laser est capable de mesurer avec précision des distances allant jusqu'à 210 μ m et peut enregistrer jusqu'à 250 000 points le long de la ligne de balayage. Cette haute résolution permet de détecter même les structures les plus complexes sur les surfaces du masque et de la plaquette. OLYMPUS KIF-201 dispose également d'images sans contact, permettant à l'appareil de scanner des structures délicates sans causer de dommages. Ceci est idéal pour les échantillons délicats qui peuvent être sujets à des rayures ou d'autres dommages physiques. Il fournit également un processus reproductible et fiable pour l'inspection des surfaces délicates des masques et des plaquettes. En outre, KIF-201 dispose d'une machine unique pour gérer l'exposition de la caméra et la vitesse de balayage laser, assurant que chaque image et mesure est de la plus haute qualité. La plate-forme d'imagerie fournie par OLYMPUS KIF-201 dispose également d'une interface utilisateur puissante, permettant une configuration et une manipulation faciles des flux de travail d'inspection. Il est conçu avec des outils graphiques pour définir rapidement les voies et définir les paramètres de capture et de mesure des images. Le processus d'inspection est également entièrement automatisé, ce qui permet un contrôle complet de la durée totale de mesure et de l'exactitude des résultats. Dans l'ensemble, KIF-201 est un outil puissant et fiable pour l'industrie des semi-conducteurs. Il fournit une technologie de balayage laser de pointe et une plate-forme d'imagerie haute résolution, assurant des mesures précises, détaillées et répétables. Il dispose également d'une interface utilisateur intuitive, permettant une configuration rapide et une manipulation facile du processus d'inspection. Son imagerie sans contact permet également d'inspecter les surfaces délicates des masques et des plaquettes sans risquer d'être endommagées. Toutes ces caractéristiques font d'OLYMPUS KIF-201 un choix idéal pour une inspection précise et fiable des masques et des plaquettes.