Occasion OSI Metra 2100M #9026268 à vendre en France

OSI Metra 2100M Mask & Wafer Inspection Equipment fournit une puissante plate-forme d'inspection, d'analyse et d'examen des défauts avec des résultats très précis pour la fabrication de masques et de plaquettes semi-conducteurs. Cet outil est spécialement conçu pour donner aux utilisateurs la puissance nécessaire pour analyser rapidement et avec précision les grands ensembles de données wafer et/ou masquer. Cet outil peut balayer rapidement le masque et les plaquettes à des vitesses jusque-là inatteignables. Conçu pour accueillir des images avec une résolution maximale de 2 micromètres, Metra 2100M peut scanner une plaquette entière de 13 pouces en seulement 90 secondes. Cette optimisation unique, jumelée à ses algorithmes incroyablement haute résolution, garantit des résultats rapides et précis. Le système est également conçu pour réduire le taux de rejet des plaquettes, ainsi que pour éliminer les fausses défauts de l'ensemble de données d'inspection. En matière d'analyse approfondie, OSI Metra 2100M propose de nombreux critères de réussite/échec sélectionnables par l'utilisateur pour garantir la précision. L'analyse à l'échelle de gris, par exemple, utilise des techniques de comparaison pixel par pixel pour mesurer avec précision les détails de l'image. De plus, l'unité offre une analyse granuleuse et des applications sophistiquées pour l'analyse binaire, de ligne, de remplissage, de densité, de contraste et de transparence. Ceux-ci peuvent être utilisés pour noter les différences les plus légères entre les masques et les plaquettes, aidant à identifier et éliminer divers types de défauts. La machine comprend également de puissants outils d'analyse et d'optimisation des défauts post-inspection. Ici, l'utilisateur a une gamme d'options, y compris la classification automatique des défauts, la visualisation des données de défauts, et l'auto-classification de divers types de défauts. L'outil est également conçu pour fournir aux utilisateurs des bases de données intégrées sur les défauts, ce qui permet aux utilisateurs de réduire encore leurs temps d'inspection et d'offrir une meilleure détection et rejet des défauts. En ce qui concerne le confort et l'efficacité de l'utilisateur, Metra 2100M offre un contrôle de température avancé et un gestionnaire de format de fichier puissant. Cela permet aux utilisateurs de stocker et de comparer différentes images et de gérer de grands ensembles de données de manière organisée et efficace. Dans l'ensemble, OSI Metra 2100M Mask & Wafer Inspection Asset fournit aux utilisateurs des résultats fiables, précis et faciles à comprendre. Son optimisation de la résolution d'image, ses analyses avancées et ses outils de révision et d'optimisation des défauts en font un choix idéal pour la fabrication de masques et de plaquettes semi-conducteurs.