Occasion PARLEC P2500A-0387 #9266043 à vendre en France

PARLEC P2500A-0387 est un appareil d'inspection de haute précision au microscope électronique optique à balayage (SEM) et au masque et wafer. Ce système permet à ses utilisateurs de visualiser et de mesurer les caractéristiques critiques des masques et des plaquettes au niveau du nanomètre. P2500A-0387 dispose d'une unité d'imagerie SEM haute résolution, qui permet aux utilisateurs de visualiser et de mesurer les caractéristiques de motifs fins. Il est équipé d'une capacité avancée de balayage automatique des plaquettes, qui peut être utilisé pour cartographier automatiquement l'ensemble de la plaquette. Ses capacités automatiques d'extraction de fonctionnalités peuvent détecter et mesurer avec précision les défauts, caractériser les données de superposition et analyser les fonctionnalités. La machine est capable d'inspecter une large gamme de masques et de plaquettes, allant des nœuds de processus avancés aux couches diélectriques basses. En outre, cet outil dispose d'interfaces utilisateur pratiques, de sorte que les utilisateurs sont en mesure d'interagir avec les données rapidement et efficacement. PARLEC P2500A-0387 utilise le procédé d'imagerie optique pour la mesure fine des caractéristiques. En tirant parti de l'interférométrie du spectre étalé, du contraste des bords et de l'imagerie IR non destructive, PARLEC est en mesure de mesurer la topographie de surface avec une précision et une précision élevées. Le processus d'imagerie IR peut détecter et mesurer une faible épaisseur de matériau, ce qui est essentiel pour les nœuds avancés de processus. L'actif d'imagerie SEM comprend les électrons secondaires, les électrons rétrodiffusés et les détecteurs de rayons X. Tous ces détecteurs peuvent être utilisés pour mesurer à la fois la forme des caractéristiques et les paramètres dimensionnels. En outre, les utilisateurs ont accès à une large gamme de capacités de rotation de spécimen, qui leur permettent de mesurer avec précision la topographie 3D de caractéristiques difficiles. Le Masque et Wafer Inspection Model dispose d'un logiciel d'interface puissant, qui fournit aux utilisateurs tous les paramètres nécessaires pour la mesure et l'analyse des wafers. Il prend également en charge une large gamme d'outils d'automatisation puissants, y compris la détection de bord, l'analyse de fonctionnalités et les mesures de superposition. Dans l'ensemble, P2500A-0387 est un équipement d'inspection Masque et Wafer extrêmement puissant et précis. Il est conçu pour permettre aux utilisateurs de mesurer les caractéristiques critiques des motifs au niveau du nanomètre, et il est capable de tirer pleinement parti des nœuds de processus avancés et des couches diélectriques basses. En outre, ses interfaces utilisateur hautement interactives et ses fonctionnalités automatisées font de ce système un dispositif inestimable pour tout laboratoire EMS.