Occasion RAYTEX RXW-1226SFI #9315831 à vendre en France

RAYTEX RXW-1226SFI est un équipement d'inspection de masques et de plaquettes spécialement conçu pour être utilisé dans des environnements de processus semi-conducteurs. Ce système est équipé d'un groupe intégré d'inspection optique (OIS) qui utilise l'optimisation des images en champ lumineux et en champ sombre, ainsi que la technologie infrarouge structurée pour détecter un large éventail de défauts. En outre, sa machine de traitement avancé du signal est capable d'évaluer automatiquement les défauts, afin de les classer en fonction de leur gravité. RAYTEX RXW 1226SFI a une résolution exceptionnellement élevée de 10 micromètres. Cela en fait un outil très précis pour l'inspection des masques et autres surfaces photorésistives. La source lumineuse intégrée de l'outil garantit en outre que les conditions d'éclairage les plus élevées possibles sont prévues pour l'inspection et l'identification des défauts, ce qui facilite une analyse plus rapide et de meilleure qualité. L'actif dispose également de multiples méthodes de couverture, y compris les modes de bande et de couverture complète. Celles-ci offrent une certaine souplesse quant aux types d'inspections et d'analyses qui peuvent être effectuées. En outre, le modèle fournit également divers algorithmes de reconnaissance de motifs qui lui permettent de fournir une analyse automatisée des motifs de défauts. L'équipement dispose également d'une interface d'écran tactile qui fournit une interface intuitive et facile à utiliser pour l'utilisateur. Cela permet une navigation facile du système et peut être utilisé pour contrôler divers paramètres. L'unité dispose également d'une variété d'options de personnalisation, permettant une sortie de données sur mesure pour différents types d'inspections. Dans l'ensemble, RXW-1226SFI est un excellent et très avancé masque et wafer inspection machine. Son outil d'inspection optique avancé est capable de détecter un large éventail de défauts et sa sortie personnalisable fournit une précision et une précision accrues dans l'analyse et la détection de ces défauts. Cet atout est un outil exceptionnellement puissant et est essentiel dans l'environnement des processus semi-conducteurs.