Occasion RUDOLPH / AUGUST CV 9812 #9223286 à vendre en France

ID: 9223286
Taille de la plaquette: 12"
Wafer career inspection, 12" High resolution CCD Camera Probe LCD, 15” PC: Processor: 300 MHz Hard Disk Drive (HDD): 4.3 GB Floppy Disk Drive (FDD): 3.5” Dram: 24 x CD 32 MB Operating system: Windows NT4.0 Power unit: Cable Handy barcode reader Performance: Measurement accuracy: Direct measurement: ±0.0254 mm Rear wafer position measurement: ±0.0762 mm Repeatability: ±0.013 mm (Use STD Calibration tool, 6σ) Operating environment: 20°C - 22°C (Volatility 0.5°C/hour ≦) Facility: Manual CDA: 90 - 100 PSI 5/16” OD Power supply: 200-240 V, 50/60 Hz, 1φ.
RUDOLPH/AUGUST CV 9812 L'équipement d'inspection Masque et Wafer est un outil fiable et performant conçu pour permettre une inspection visuelle efficace et la classification des blocs de lithographie rapidement et avec précision. Le système offre de multiples capacités d'inspection, avec un accent particulier sur la détection de particules étrangères, bosses, rayures, et d'autres types de défauts sur les composants. L'application de l'unité s'applique à l'inspection des écrans plats, des circuits intégrés semi-conducteurs (IC), des OLED, des LED organiques (OLED), des LED, des cellules solaires et d'autres substrats minces. La machine est équipée d'une fenêtre d'inspection précise, sans verre, optiquement parfaite qui est utilisée pour mesurer le pas exact de la couche de masque. Cela permet à l'outil de détecter de minuscules variations dans les blocs de lithographie avec une extrême précision, et ainsi permettre à la fois l'analyse et la correction du motif de défaut. L'actif supporte également des algorithmes avancés pour la détection automatisée des défauts, ainsi que l'inspection manuelle. Afin de détecter les particules et autres défauts sur les composants, le modèle utilise une technologie optique avancée, qui comprend l'interférométrie laser et le traitement d'image. L'interféromètre laser est utilisé pour mesurer avec précision la distance entre chaque motif détaillé sur la couche de masque. Le processeur analyse ensuite les images pour identifier les défauts, tels que la présence de particules étrangères. Les images peuvent également être utilisées pour classer les défauts en fonction de la taille, la forme, l'emplacement, et d'autres paramètres. L'équipement peut également détecter et classer plusieurs niveaux de défauts. Cela signifie qu'un technicien peut obtenir un examen plus détaillé du problème, en les aidant à identifier la cause du défaut ou à le classer en conséquence. Cela permet d'économiser du temps et des ressources, d'améliorer l'efficacité et de prévenir de nouveaux dommages aux produits. AUGUST CV 9812 Le système d'inspection Mask & Wafer s'intègre également aux systèmes d'essai, permettant aux opérateurs de vérifier l'état de la production pendant qu'ils évaluent et réparent les défauts. De plus, l'unité est conçue pour fournir des capacités analytiques avancées afin d'améliorer encore la précision de détection des défauts. Il permet de recueillir et de stocker les données pouvant donner lieu à une action d'une manière qui peut être partagée avec d'autres intervenants, tels que les ingénieurs et les fournisseurs de matériel. La machine d'inspection RUDOLPH CV 9812 Masque et Wafer est un outil avancé pour l'inspection et la classification rapides, précises et précises des blocs de lithographie. Sa technologie optique polyvalente, ses capacités d'inspection automatisée et ses analyses intégrées lui permettent de détecter et de corriger les défauts en temps opportun et de manière efficace, contribuant ainsi à réduire les coûts et à améliorer la qualité des produits.
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