Occasion RUDOLPH / AUGUST NSX 105 #9230601 à vendre en France

RUDOLPH/AUGUST NSX 105 Masque & Wafer Inspection Equipment est un système complet d'inspection des plaquettes et des masques pour l'industrie de la fabrication de semi-conducteurs. L'unité est une machine intégrée composée d'une station de charge électrique, d'un illuminateur à éclairage direct (DI), d'une caméra, d'un ordinateur, d'un logiciel de traitement d'image et d'un équipement périphérique comprenant un microscope SDE, un étage d'échantillonnage et un outil de filtration. Le sous-système opto-électronique de l'actif comprend la station d'imagerie polariseur-analyseur (PAIS), l'illuminateur DI, la caméra et le microscope SDE. L'illuminateur a une gamme de longueurs d'onde de 400 à 1050 nm, avec une large gamme de caractéristiques, y compris la commande de puissance adaptative et des intensités lumineuses réglables, pour assurer un haut niveau de sensibilité et des performances optimales. La caméra est une caméra CCD haute résolution qui capture des images des échantillons avec jusqu'à 600 images par seconde. Le microscope SDE (Scanning Diffraction Element) fournit une résolution optique allant jusqu'à 0,25 μ m et une image de haut grossissement de la tranche d'échantillon. Le modèle dispose d'une suite logicielle de capture et d'analyse d'images très avancée. Il comprend la détection, l'analyse et la classification automatiques et semi-automatiques des défauts, ainsi que des modules complets pour l'inspection et l'analyse des plaquettes/masques. Le logiciel permet également une variété d'opérations telles que l'inspection des masques en images planaires ou 3D, l'inspection de surface et la métrologie, l'authentification des photomasques, l'inspection 3D et la détection des défauts. L'équipement périphérique d'AUGUST NSX-105 Mask & Wafer Inspection Equipment est conçu pour une grande précision. L'étage d'échantillonnage est conçu pour un positionnement précis, avec des paramètres réglables pour un positionnement précis et pour obtenir une plus grande précision. Le système de filtration assure un environnement d'inspection propre et précis en éliminant les petites particules de l'environnement. L'unité est conçue pour être fiable et précise, avec une précision spécifiée jusqu'à 0,25 μ m et un rapport signal/bruit maximal de 1000:1. Il est également équipé d'un entretien prédictif, d'écrans tactiles conviviaux, d'alarmes et d'un contrôle de la température pour garantir la plus haute performance et une température de fonctionnement optimale. RUDOLPH NSX 105 Masque & Wafer Inspection Machine est une solution tout-en-un pour l'inspection et l'analyse des masques et des plaquettes, fournissant des performances précises et fiables dans l'industrie de la fabrication de semi-conducteurs. Cet outil est adapté à un traitement haut de gamme et de haute précision et peut être utilisé pour détecter, classer et analyser efficacement les défauts dans les masques, dispositifs semi-conducteurs et autres matériaux connexes.