Occasion RUDOLPH / AUGUST NSX 105 #9391356 à vendre en France

RUDOLPH/AUGUST NSX 105 masque and wafer inspection equipment est une solution complète d'inspection automatisée spécialement conçue pour la surveillance et l'essai des masques et substrats de dispositifs semi-conducteurs. Le système combine des algorithmes avancés d'imagerie et d'imagerie pour fournir une résolution supérieure, la détection et l'inspection de tous les types de masques, ainsi que les plaquettes, et d'autres substrats. L'unité s'intègre facilement dans tout processus de fabrication existant, permettant aux opérateurs d'inspecter et d'évaluer la production de masques et de plaquettes tout en maximisant le contrôle de la qualité. AUGUST NSX-105 intègre une machine d'imagerie avancée, qui utilise un algorithme automatisé de capture et d'analyse d'images pour mesurer avec précision les caractéristiques des plaquettes et évaluer l'uniformité au sein du substrat. Cette capacité unique permet de repérer des problèmes simples et rapides en temps réel, avant que le masque ou la plaquette ne soit envoyé pour un traitement ultérieur. L'outil permet un contrôle et un réglage efficaces des processus, et optimise les plans de conception pour une performance maximale de l'appareil. Grâce à ses capacités complètes d'inspection automatisée, RUDOLPH NSX 105 peut inspecter et analyser différents types de masques et de substrats facilement et rapidement. L'algorithme d'imagerie utilisé est capable de détecter des défauts, calcifications et autres irrégularités dans ces matériaux, et est même capable d'identifier différents types de surfaces de couches et de défauts sur la plaquette. L'atout offre également un logiciel intuitif et convivial qui permet à l'utilisateur de créer et de surveiller des processus de production avec de nombreux protocoles de wafer, de masquage et de conception. Tous ces outils de suivi des processus sont conçus pour simplifier et rationaliser les opérations, ce qui facilite la tâche d'assurer la qualité des produits. NSX-105 offre également plusieurs options pour optimiser le rendement, telles que le contrôle direct et ambiant des processus, la détection programmable des erreurs et la détection des particules exotiques. Ce modèle convient à la fois à la production industrielle et à la recherche scientifique, fournissant une précision exquise et des résultats rapides. L'équipement dispose également d'une faible empreinte, le rendant facile à intégrer dans presque n'importe quel environnement de fabrication. Le système NSX 105 masque et wafer inspection est un outil révolutionnaire pour assurer la qualité des produits et améliorer les processus de production. Cette unité offre une solution d'imagerie avancée avec des caractéristiques et des capacités uniques, ce qui en fait un excellent choix pour tout fabricant de semi-conducteurs.