Occasion RUDOLPH / AUGUST NSX 105C #9277053 à vendre en France

L'équipement RUDOLPH/AUGUST NSX 105C Masque et Wafer Inspection offre une combinaison unique de performance, de polyvalence et de fiabilité. Le système est conçu pour détecter les défauts de toute taille et forme sur les masques et les plaquettes pendant le processus de fabrication et peut être utilisé pour inspecter jusqu'à 25 microns de résolution. AUGUST NSX-105C est capable de détecter des caractéristiques telles que des couches de contact, des couches de film, des structures à haut rapport d'aspect, des CD et des emplacements, et peut également détecter des particules et d'autres contaminants qui peuvent affecter la qualité des produits. RUDOLPH NSX 105 C dispose d'un positionnement programmable automatique de la tête de caméra, qui est commandé par une interface utilisateur graphique à l'écran. Cela permet de positionner exactement la caméra dans le champ de vision souhaité pour chaque objet inspecté. Une caractéristique unique de RUDOLPH/AUGUST NSX 105 C est que l'image peut être focalisée avec une unité optique sans lentille. Cela signifie qu'au lieu d'avoir besoin d'acheter des lentilles et de régler le foyer manuellement, l'utilisateur peut simplement entrer la taille d'image désirée et positionner la caméra pour se concentrer sur elle. RUDOLPH NSX-105C est livré avec une variété de logiciels d'acquisition d'image qui peuvent être utilisés pour acquérir et traiter les données d'image. Le logiciel permet l'acquisition d'images multiples, qui peuvent ensuite être comparées pour inspection. Les capacités de comparaison du logiciel peuvent être utilisées pour détecter des irrégularités entre deux ou plusieurs images afin d'identifier d'éventuels défauts. Cela peut être fait rapidement et avec précision afin de fournir des résultats plus fiables et cohérents. De plus, NSX 105C offre une classification automatisée des défauts pour une meilleure assurance qualité. Cette fonction automatisée permet aux utilisateurs d'identifier et de classer rapidement les défauts qui se trouvent dans les objets inspectés. La machine est également équipée d'un outil de mesure réfléchissant qui peut être utilisé pour détecter les défauts microscopiques dans les matériaux. Dans l'ensemble, l'actif NSX 105 C Masque et Wafer Inspection est un outil précieux pour assurer la qualité de la fabrication d'un produit. La combinaison des performances et de la fiabilité du modèle en fait un excellent choix pour tout fabricant cherchant à réduire les défauts et à améliorer son processus global.