Occasion RUDOLPH / AUGUST NSX 105C #9300479 à vendre en France

RUDOLPH/AUGUST NSX 105C Mask & Wafer Inspection Equipment est un système à haute résolution pour l'inspection des masques et des plaquettes utilisés dans les procédés modernes de fabrication de semi-conducteurs. L'unité utilise 2nm optique de résolution, qui fournissent une résolution d'image de haute précision pour inspecter même les modèles les plus complexes. L'optique est connectée à une caméra de scan haute résolution, qui fournit une définition d'image exceptionnelle. AUGUST NSX-105C offre un excellent avantage au procédé de fabrication des semi-conducteurs, car il est capable d'effectuer une inspection des défauts multiples, ainsi que d'évaluer la conformité du procédé à la spécification. La machine se compose de deux unités primaires, un module d'éclairage et un module de détection automatisé. Le module d'éclairage fournit une large gamme d'éclairage, y compris LED, laser, et lampes à arc. Le module de détection automatisé peut détecter des défauts dans plusieurs plans. Il fournit également un logiciel pour l'analyse et la gestion des données d'image. RUDOLPH NSX 105 C est conçu pour répondre aux besoins exigeants de la fabrication moderne de dispositifs semi-conducteurs. Son optique avancée permet des améliorations spectaculaires de l'imagerie par rapport aux anciens systèmes d'inspection des plaquettes. L'outil utilise une technologie de détection d'image aérienne propriétaire, qui lui permet de scanner toute la surface de la plaquette dans le temps qu'il faut pour effectuer un seul balayage. La conception légère et compacte de l'actif le rend idéal pour une utilisation dans des environnements de production à haut volume. Le NSX 105 C offre également des capacités avancées de détection des défauts. Il est équipé de plusieurs algorithmes de détection avancés, assurant d'excellentes performances de détection de défauts. Les utilisateurs sont également en mesure d'utiliser le modèle pour une analyse rapide et efficace des données. L'équipement est extrêmement convivial et fournit des outils utiles de rétroaction et d'analyse de l'offre pour une précision maximale de détection des défauts. Dans l'ensemble, NSX-105C Mask & Wafer Inspection System est une unité avancée pour l'inspection des masques et des plaquettes qui convient à des environnements de production à haut volume. Son optique avancée permet des images haute résolution qui permettent une détection rapide et précise des défauts. La machine est très conviviale et riche en fonctionnalités, ce qui en fait un atout précieux pour le processus de fabrication des dispositifs semi-conducteurs.