Occasion RUDOLPH / AUGUST NSX 115 #9394174 à vendre en France

RUDOLPH/AUGUST NSX 115 Masque et Wafer Inspection Equipment est un système de haute précision et à haut débit conçu pour assurer l'inspection des masques continus et des applications réticulaires à motifs doubles. L'unité est équipée d'une caméra CCD 5MP carré et est capable de 8um basse-k1 et 10um haute-k1 résolution d'inspection. La caméra est montée sur un axe Z pour permettre la capture complète de la profondeur de champ du masque (MDoF) de la géométrie du masque 3D tandis que la machine est également capable de fournir une inspection de masque 2D de haute résolution. De plus, le multi-projecteur 3D Overlay permet d'effectuer en ligne le scoring manuel Confidassure Tool et les détections algorithmiques. Le matériel actif est contrôlé par la plate-forme de vision de la machine SofTec pour permettre une personnalisation et un traitement des données faciles avec une vitesse et une flexibilité supérieures. Cela permet aux utilisateurs de commuter facilement entre les opérations d'inspection, permettant le support pratique d'outils multi-formats tels que Amplification, Soustraction, Double-Différence, Overlay et Overlay Complexe avec plusieurs couches. De plus, des logiciels sont disponibles pour des applications spécialisées telles que l'analyse d'image 2D, l'inspection des bords réticulaires, la rugosité des bords de ligne, le MEF, la mesure de focalisation, l'intégrité des mesures et l'analyse des défauts répétitifs. AUGUST NSX 115 est conçu pour des performances 24/7 avec des fonctionnalités telles que Mask Slide Change, Defect Correction, Cross-Site Report Evaluation, OCR en ligne et Rapport Codage. Il est également conçu pour minimiser l'intervention de l'opérateur et maximiser les rendements, avec une multitude de fonctions de contrôle de processus telles que Mask Load Strategy, Intricacy Map, Defect Management, Online Analysis et Pré-Nettoyage. En combinant les fonctionnalités logicielles avec la puissante caméra CCD 5MP, RUDOLPH NSX 115 fournit le taux de rétention le plus élevé même lorsque confronté à des taux élevés de faux défauts et est capable de produire des inspections très précises avec des temps de cycle bas. Dans l'ensemble, le modèle NSX 115 Masque et Wafer Inspection Model offre une solution leader dans l'industrie pour l'inspection de haute précision, faible taux de défaut pour le masque continu ainsi que les opérations à double motif réticule. En combinant la puissante caméra CCD 5MP, la plate-forme de vision automatique SofTec et une multitude de logiciels de support, RUDOLPH/AUGUST NSX 115 est capable de fournir des inspections fiables, à haut débit et précises.