Occasion RUDOLPH / AUGUST NSX 320 #293587167 à vendre en France

RUDOLPH / AUGUST NSX 320
ID: 293587167
Macro defect inspection system.
RUDOLPH/AUGUST NSX 320 Masque et Wafer Inspection Equipment est un outil innovant et précis pour l'inspection des masques et wafers utilisés dans la production de semi-conducteurs. Ce système est composé d'une caméra CCD de 3 mégapixels et d'un objectif interchangeable, permettant l'imagerie précise des masques et des plaquettes. La caméra est montée sur un étage X-Y précis, permettant un mouvement précis dans tous les axes, y compris les capacités de zoom. Parmi les autres caractéristiques, mentionnons les capacités d'inspection par filtre, la technologie avancée de compensation 3D et les algorithmes d'appariement des motifs. La polyvalente AUGUST NSX 320 Mask & Wafer Inspection Unit est conçue pour réduire les coûts de production et améliorer l'efficacité des processus. Il est équipé d'une caméra CCD sensible à deux couleurs, qui peut détecter même des défauts minuscules dans la production de masque et de plaquettes. Cette machine offre une numérisation détaillée et des fonctionnalités macro pour capturer des fonctionnalités fines qui ne sont pas concevables lors de l'utilisation de caméras analogiques. Des lentilles interchangeables sont disponibles pour permettre des inspections précises à différentes distances, permettant des cycles d'inspection plus rapides. L'outil RUDOLPH NSX 320 Masque et Wafer Inspection Tool utilise une technologie de compensation 3D avancée pour réduire le temps nécessaire à la mesure de l'alignement des modèles, réduisant l'erreur d'étalage des actifs jusqu'à un nanomètre. Le modèle comprend également un puissant algorithme de correspondance de motifs, qui peut détecter même les plus petits défauts, aussi petits que 10nm. Pour l'inspection automatisée, l'équipement comprend des technologies d'alignement et de numérisation automatiques. Ces technologies permettent au système de scanner et d'inspecter avec précision plusieurs masques, augmentant la productivité et réduisant les erreurs d'inspection. NSX 320 Mask & Wafer Inspection Unit comprend également un module logiciel d'analyse d'image pour aider à la détection précise des objets. RUDOLPH/AUGUST NSX 320 Masque et Wafer Inspection Machine peut être utilisé pour une variété d'applications, y compris l'inspection aiguë et précise des masques et wafers utilisés dans la production de semi-conducteurs. Cet outil est spécifiquement conçu pour répondre aux normes élevées de l'industrie des semi-conducteurs, assurant un haut niveau de précision et de fiabilité. AUGUST NSX 320 Masque et Wafer Inspection Asset est un outil idéal pour toute ligne de production, fournissant des résultats rapides et précis pour des processus de production améliorés.
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