Occasion RUDOLPH / AUGUST NSX 320 #9248723 à vendre en France

RUDOLPH/AUGUST NSX 320 est un équipement automatisé d'inspection des masques et des plaquettes. Le système est conçu pour fournir un niveau élevé de capacités de détection et d'inspection des défauts pour un large éventail de types d'applications. Il peut être utilisé à la fois pour la production et la recherche de puces semi-conductrices, de masques et d'inspections de plaquettes. AUGUST NSX 320 fournit la détection des défauts à l'échelle de la plaquette et l'inspection des caractéristiques opaques et structurées. La machine dispose d'un microscope optique avec des caméras automatisées et des sources lumineuses pour des inspections faciles et efficaces. Un traitement d'image en ligne et des algorithmes de détection de défauts permettent à l'outil de détecter avec précision les types de défauts, y compris les motifs brisés, les fils brisés et les motifs mal alignés. L'actif comprend également un paquet de révision et d'analyse des défauts qui permet aux utilisateurs d'examiner les défauts détectés par le modèle et de créer un rapport de tous les résultats détectés. L'équipement dispose d'une interface utilisateur personnalisable, qui fournit des examens intuitifs multidimensionnels des défauts, y compris le niveau de profil et l'accord des seuils. Cela rend le système capable d'un large éventail de tâches routinières d'examen et d'analyse des défauts, permettant une plus grande flexibilité et de débit. L'unité comprend également une série de fonctions d'analyse par grappes de défauts au niveau de la plaquette. Cela comprend les outils de classification statistique qui identifient les variations de structure ou de caractéristiques, telles que l'interconnexion, les irrégularités et les paramètres de forme qui pourraient indiquer des défauts de forme potentiels. Il permet également aux utilisateurs de revoir rapidement et avec précision les modèles de défauts. RUDOLPH NSX 320 dispose également d'une capacité unique « Smart Status », qui permet à la machine de suivre continuellement les tendances des défauts. Cela permet une surveillance en temps réel des défauts, fournissant une rétroaction à jour sur les performances et l'efficacité. Combiné à d'autres avancées telles que la classification automatisée des défauts et l'analyse des motifs, l'outil peut détecter et analyser avec précision les défauts rapidement et efficacement, tout en améliorant les capacités de détection et d'analyse des défauts. Dans l'ensemble, NSX 320 offre une plate-forme d'inspection robuste et performante pour les wafer, masques et autres applications de semi-conducteurs. Le modèle offre des capacités de détection et d'analyse de défauts inégalées dans l'industrie. Ses caractéristiques, sa flexibilité et ses performances en font un choix idéal pour les entreprises qui cherchent à réaliser une détection et une analyse approfondies des défauts pour leurs applications semi-conductrices.