Occasion RUDOLPH NSX 105 #9362039 à vendre en France

L'équipement RUDOLPH NSX 105 Masque et Wafer Inspection est un système spécialement conçu pour faciliter l'inspection et l'examen rapides des masques et wafers. Il offre une grande variété de caractéristiques qui le rendent idéal pour une utilisation dans les industries de production, de recherche et de développement. L'unité dispose d'une machine sophistiquée de reconnaissance et d'imagerie de plaquettes. Cet outil utilise la technologie d'imagerie électromagnétique pour générer une image bidimensionnelle d'un masque ou d'une plaquette dont la résolution peut atteindre 3 µm. Ceci permet d'identifier et d'inspecter les défauts ou autres anomalies susceptibles d'être présents à la surface du masque ou de la plaquette. RUDOLPH NSX-105 intègre un capteur hautement sensible capable de détecter et de mesurer l'uniformité des caractéristiques sur une plaquette ou un masque. Cela donne un aperçu du processus de production des plaquettes et des masques. De plus, l'analyse automatisée sur la plaquette ou le masque est effectuée avec une grande précision, ce qui réduit le temps nécessaire à l'inspection d'une seule plaquette ou masque. L'actif dispose également d'un modèle automatisé de collecte et d'analyse des données. Une fois l'image du masque ou de la plaquette collectée, elle est analysée et envoyée directement à la ligne de production ou aux archives où les informations peuvent être revues. L'équipement automatisé de collecte et d'analyse des données gère toutes les données, ce qui permet une révision plus efficace des plaquettes et des masques. NSX 105 offre également une large gamme d'options logicielles. Le système fonctionne sur le logiciel Windows, permettant aux utilisateurs de personnaliser l'interface et les paramètres. Cela permet aux utilisateurs d'adapter l'appareil à leurs besoins et préférences spécifiques. Enfin, NSX-105 permet un fonctionnement à distance. Cela permet à plusieurs opérateurs à différents endroits de faire fonctionner la machine, ce qui permet une révision à grande échelle de plusieurs plaquettes et masques en temps opportun et de manière efficace. Dans l'ensemble, RUDOLPH NSX 105 Masque et Wafer Inspection outil est un atout sophistiqué qui simplifie la tâche de masque et wafer inspection. Le modèle est doté d'une technologie d'imagerie de pointe et d'un équipement automatisé de collecte et d'analyse de données. En outre, il permet une révision à grande échelle et des logiciels personnalisables. Toutes ces fonctionnalités font du système RUDOLPH NSX-105 Masque et Wafer Inspection un choix idéal pour la production, la recherche et le développement.