Occasion RUDOLPH NSX 105 #9412393 à vendre en France

RUDOLPH NSX 105 est un équipement d'inspection Masque et Wafer, conçu pour fournir une haute performance et fiabilité. RUDOLPH NSX-105 a été conçu pour détecter rapidement les défauts de lignes et d'espace ainsi que les défauts associés aux matériaux photomasques et wafer. NSX 105 utilise une configuration optique puissante composée de deux objectifs à large champ et de deux objectifs d'imagerie télécentriques. Le système dispose d'une unité de zoom optique Angenieux qui régule le mouvement et la focalisation de la machine, ce qui permet la focalisation optique précise de la machine. NSX-105 dispose également d'un outil d'éclairage de réseau de zones sombres pour une meilleure sensibilité à la détection des défauts et d'une configuration télécentrique qui assure une focalisation toujours précise sur un large éventail de grossissements. RUDOLPH NSX 105 est équipé d'un écran tactile couleur haute résolution, à la fois convivial et intuitif. Cette interface facile à utiliser permet de régler rapidement les paramètres du processus d'inspection, tels que la taille et le type des défauts. L'actif dispose également d'un grand champ de vision pour l'examen pratique de grandes zones de la puce. RUDOLPH NSX-105 utilise une variété de capteurs haute résolution et de techniques d'éclairage afin de détecter et d'encadrer rapidement les défauts sur les plaquettes et les masques. Les modes de détection polyvalents permettent à ce modèle de détecter toutes les classes de défauts ; telles que, particules, diffraction du bord des lentilles, pontage, marbre, porosité et gravure. Par ailleurs, NSX 105 est également capable d'examiner rapidement en parallèle 100 % des surfaces planes, fonction dite de balayage « plein champ ». NSX-105 offre également un ensemble complet d'analyses de replay, qui tient un registre complet de tous les défauts détectés. Cela permet un suivi efficace et précis des défauts dans le temps et aide à localiser les défauts sur la plaquette. Le RUDOLPH NSX 105 est sans aucun doute l'un des systèmes d'inspection Masque et Wafer les plus fiables disponibles sur le marché. Il offre une détection supérieure de toutes les classes de défauts avec des capteurs haute résolution et des techniques d'éclairage, ainsi qu'une interface tactile conviviale et un grand champ de vision. Cela fait de RUDOLPH NSX-105 un excellent choix pour une variété d'applications nécessitant une inspection rapide et fiable des matériaux photomasques et wafer.