Occasion RUDOLPH NSX 115 #9353342 à vendre en France

ID: 9353342
Style Vintage: 2008
Wafer defect inspection system, parts machine Missing parts: Odyssey board CCD Turret PC 2008 vintage.
RUDOLPH NSX 115 est un équipement d'inspection de masque et de plaquettes de pointe conçu pour assurer une précision et une précision supérieures dans la fabrication de produits microélectroniques de pointe. Le système est composé d'une unité d'imagerie optique à grande vitesse, qui capture des images des surfaces du masque et de la plaquette. La machine intègre également un module d'optique propriétaire, avec un étage de nanomètre de haute précision avec une capacité avancée d'alignement de micro-motifs. Ceci permet une configuration rapide et précise de l'inspection pour l'optimisation des processus. NSX 115 est également équipé d'une palette optomasque haute résolution qui fournit une bibliothèque de masques et des données de mesure fiables. Une capacité avancée d'édition de masque permet d'automatiser et d'exiger la correspondance de motifs pour une variété de types de masques, y compris les spécifications pulvérisées, gravées et lithographiques. Le champ de vision étendu et les capacités de balayage à grande vitesse de l'outil d'imagerie optique permettent de visualiser rapidement même les structures les plus complexes. Avec un ajustement d'inclinaison de haute précision à 45 degrés, l'actif fonctionne dans une grande zone sans compromettre la précision. Cela permet d'inspecter des caractéristiques de grande surface, y compris des contacts symétriques et asymétriques, sur une large gamme de topographies de dispositifs. RUDOLPH NSX 115 est en outre équipé d'une gamme complète d'optiques d'inspection des plaquettes, lui permettant d'obtenir une surface d'image et des caractéristiques de défaut avec une résolution précise. Pour garantir des résultats d'inspection de haute précision, le modèle est équipé d'une capture d'image haute résolution pour une inspection améliorée des plaquettes. De plus, le processus automatisé d'alignement et d'inspection simplifie la configuration et les activités de surveillance subséquentes. NSX 115 est également adapté pour une variété d'applications de surveillance de processus. L'équipement est conçu pour détecter tout décalage subtil des paramètres du processus, y compris la longueur focale, les caractéristiques des photomasques et la distorsion des lentilles. Grâce à la fonction de capture d'image automatisée du système, cela permet d'optimiser les processus à long terme et d'améliorer les rendements. Les options automatisées garantissent un suivi continu des résultats essentiels au processus. En plus de sa capacité d'inspection des masques et des plaquettes, RUDOLPH NSX 115 offre également une connectivité supérieure entre divers moniteurs et systèmes de données. Le support réseau avancé permet la visualisation à distance d'images, de rapports et de données. Ceci est particulièrement utile pour les équipes à distance qui surveillent de près les paramètres critiques du processus à partir d'un emplacement central. En conclusion, NSX 115 est un outil d'imagerie sophistiqué pour l'inspection détaillée et fiable des masques et des plaquettes. Son module optique sophistiqué, sa bibliothèque de masques efficace et ses capacités avancées de capture d'images permettent une installation rapide d'inspection et une détection fiable des défauts. La connectivité à distance haute performance garantit également un support supérieur pour l'optimisation des processus et des améliorations de rendement à long terme.
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