Occasion RUDOLPH Waferview 320 #9234643 à vendre en France

Il semble que cet article a déjà été vendu. Consultez les produits similaires ci-dessous ou contactez-nous et notre équipe expérimentée le trouvera pour vous.

ID: 9234643
Macro defect inspection systems 2006 vintage.
RUDOLPH Waferview 320 est un masque haute résolution et un équipement d'inspection des plaquettes conçu pour des tâches avancées d'inspection des défauts en ligne. Le système offre une combinaison unique de fonctionnalités pour faciliter l'inspection automatisée et de qualité de haut débit des masques et des plaquettes de taille fine. L'appareil est alimenté par une caméra CCD à haute fidélité et haute résolution de 7 microns couplée à un train d'éclairage à double axe de 19/18/12um NA. Cela permet une précision inégalée d'inspection des plaquettes et masques avec une grande clarté. La machine dispose également de la manipulation intuitive des plaquettes et de l'alignement des robots à six axes qui renforce la flexibilité et la polyvalence du positionnement des robots et des plaquettes. Les algorithmes d'inspection comprennent plusieurs techniques d'inspection des plaquettes, y compris la cartographie topographique, l'autofocus, la cartographie des défauts, la différenciation des fonctionnalités et le pas rapide. Ces algorithmes sont complétés par des intégrations complètes de bases de données et un outil intégré de suivi des défauts qui peut détecter des différences subtiles dans les formes, les caractéristiques et les textures des plaquettes en quelques minutes. Waferview 320 dispose également d'un chemin lumineux optimisé qui exploite et contrôle toute la gamme des détails de l'image, assurant une couverture complète d'un bord à l'autre. Cela permet de détecter une grande variété de défauts, des défauts à grande échelle aux défauts délicats, presque invisibles. De plus, l'actif dispose d'un processus automatisé de reconnaissance de boucle vierge et de motif qui peut être utilisé pour évaluer la qualité du processus à tout moment et cartographier les défauts détectés en coordonnées liées au processus. La construction du modèle est robuste et modulaire, minimisant les vibrations mécaniques et assurant une plate-forme stable. Les données mécaniques et optiques sont étroitement intégrées dans une unité indivisible, ce qui permet aux utilisateurs de gagner du temps en ne traitant pas plusieurs parties distinctes. Dans l'ensemble, RUDOLPH Waferview 320 masque et wafer inspection équipement est un outil puissant et fiable pour toute application industrielle. Il dispose de fonctionnalités complètes qui permettent aux utilisateurs de détecter et d'inspecter efficacement les défauts, et une conception intuitive qui facilite un meilleur déroulement du travail. En combinant sa résolution, sa précision et sa précision de pointe avec sa conception robuste et modulaire, ce système est sûr de contribuer à rationaliser les inspections et de garantir des résultats de haute qualité.
Il n'y a pas encore de critiques