Occasion RUDOLPH WV 320 #9373222 à vendre en France

RUDOLPH WV 320 masque et équipement d'inspection des plaquettes est une solution d'inspection conçue pour une métrologie rapide et précise des plaquettes et masques semi-conducteurs. Le système se compose d'un ensemble opto-mécanique, d'une caméra et d'un logiciel et fournit aux utilisateurs des mesures fiables, reproductibles et automatisées. L'unité est capable de mesurer des plaquettes et des masques avec un balayage de grille en 2 dimensions, et peut déplacer les plaquettes et les masques jusqu'à 50 microns avec l'étage motorisé. La machine est équipée d'une caméra CCD ultra haute résolution qui fournit des mesures de métrologie de haute précision. Il dispose d'un champ de vision réglable qui permet à l'utilisateur de déplacer la caméra de 3.2mm à 63mm. La caméra supporte plusieurs modes d'acquisition d'images, tels qu'une dimension, deux dimensions, et le balayage de zone d'intérêt. La suite logicielle fournit à l'utilisateur une gamme de fonctionnalités pour gérer le processus de mesure. La suite logicielle comprend un éditeur de modèles de données de plaquettes, un module d'acquisition de données, un module de métrologie et un module d'automatisation. Les données peuvent être acquises dans les variations souhaitées, telles que le balayage de grille 3x3, le balayage linéaire ou le balayage ligne par ligne. Le module d'acquisition de données permet l'importation de données provenant de diverses sources, dont des photomasques, des plaquettes, des dessins CAO et des spectres. Le module de métrologie offre une interface utilisateur et une analyse de rendement faciles à utiliser. Le module automate permet aux utilisateurs de programmer et d'automatiser le processus de mesure pour les mesures itératives, telles que les scans de grille 3D, les scans spatiaux et la détection des défauts. L'outil d'inspection des masques et plaquettes RUDOLPH WV320 est une solution d'inspection puissante et fiable pour les masques et plaquettes semi-conducteurs. L'actif fournit des mesures précises et répétables avec la caméra CCD ultra haute résolution, et un logiciel de métrologie avancé qui permet la métrologie automatisée et la détection des défauts. Le modèle est bien équipé pour gérer des projets d'inspection complexes avec la rétroaction des utilisateurs en temps réel et l'acquisition automatisée de données. L'équipement est rapide, précis et fiable, fournissant à l'utilisateur un outil efficace pour inspecter et vérifier les masques semi-conducteurs et les plaquettes.