Occasion SDI CMS III-A #9045538 à vendre en France

Le SDI CMS III-A est un équipement d'inspection des masques et des plaquettes conçu pour l'analyse rapide et à haut débit des motifs des masques des plaquettes et des semi-conducteurs. Ce système utilise une unité de balayage automatisé de pointe, avec une résolution de 250 nm pour mesurer et évaluer les structures sur la plaquette et les masques pour l'analyse des défauts. Ses capacités d'inspection fournissent aux utilisateurs une inspection rapide, précise et reproductible qui permet de détecter et d'analyser divers types de défauts, y compris les erreurs lithographiques, les masques éclaircis, les lacunes par les fonctions et la contamination. La machine se compose de quatre composants principaux : la source lumineuse, la plaquette éclairée, le capteur d'image, et l'ordinateur, connecté à un moniteur. La source lumineuse est une combinaison de deux lasers ultraviolets qui fournissent un éclairage monochrome pour une imagerie précise ; un écran à cristaux liquides (LCD) qui dirige de manière optimale la lumière laser et minimise l'exposition du dispositif à la chaleur radiative ; et un élément optique diffractif (DOE) qui augmente le champ de vision de l'outil et réduit le nombre d'images nécessaires à l'analyse. La plaquette éclairée est placée au-dessus de l'écran LCD et expose les structures cibles à la lumière laser, qui est alors détectée par un capteur d'image CMOS. Le capteur d'image est capable de résoudre des structures aussi petites que 250nm, et échantillonne les images et les envoie à un ordinateur pour analyse. Les algorithmes de traitement sophistiqués présents dans l'actif permettent de capturer et d'analyser les images en quelques secondes. Il est conçu pour détecter tout type de défauts, y compris les caractéristiques manquantes, les irrégularités dans la structure, les rayures, la contamination, et plus ; et de produire des rapports complets afin que les ingénieurs puissent résoudre rapidement tous les problèmes. L'ordinateur est également connecté à un moniteur qui affiche les images capturées ainsi que toutes les données recueillies par le modèle. Ce masque et équipement d'inspection des plaquettes est recommandé pour toute usine de fabrication et de laboratoire dans l'industrie des semi-conducteurs, offrant aux utilisateurs la possibilité d'inspecter rapidement et précisément les plaquettes et les masques à grande vitesse, tout en utilisant des algorithmes d'analyse très avancés pour la détection des défauts. Ce système est conçu pour faciliter l'utilisation et permet une inspection et une analyse rapides et précises des structures des plaquettes et des masques.