Occasion SIEMENS Optrix 3D / 3000 #9169220 à vendre en France

SIEMENS Optrix 3D/3000 Masque et Wafer Inspection Equipment est un outil d'inspection avancé de nouvelle génération pour analyser et détecter les défauts sur les appareils tridimensionnels (3D) de prochaine génération. Ce système est conçu pour les procédés semi-conducteurs avancés, tels que l'inspection des photomasques et des réticules et l'inspection des plaquettes, nécessitant une haute résolution et précision. La capacité de base de l'unité réside dans l'utilisation d'une architecture d'imagerie 3D avancée ainsi que d'un éclairage directionnel pour inspecter les détails les plus fins des photomasques et des plaquettes. Optrix 3D/3000 utilise une combinaison de laser et d'optique pour créer une image 3D précise du dispositif, qui est ensuite analysée et des défauts sont détectés. Cette approche permet de prioriser et d'identifier avec précision les défauts et d'améliorer le débit et le rendement. La technologie de détection des défauts en temps réel de la machine offre une capacité d'inspection fiable et précise avec un débit élevé. Il dispose d'une suite complète d'algorithmes d'analyse d'images, comprenant des mesures de l'espace ligne et de la largeur ligne, des variations de niveaux de gris et des appariements de motifs, assurant une détection et une classification précises des défauts. L'outil est équipé d'une interface utilisateur intuitive et d'une variété d'outils et de paramètres pour permettre la manipulation des images en temps réel. Cela inclut des fonctions telles que le réglage de la focalisation de l'image, le réglage du contraste et l'amélioration de la couleur. SIEMENS Optrix 3D/3000 est conçu pour fonctionner avec une variété de tailles et de types de plaquettes, y compris les transistors à couches minces, les capteurs d'image CMOS, les MRAM, les MCU-on-APS et les ASIC à signaux mixtes, ce qui le rend idéal pour une vaste gamme d'applications d'inspection de dispositifs semi-conducteurs. De plus, l'actif est fourni avec une variété d'améliorations, comme un modèle de réglage automatisé qui peut ajuster les paramètres de l'équipement pour chaque application, ainsi que l'accès complet à la base de données de défauts qui assure la traçabilité des résultats d'inspection. Ce système est conforme aux principales normes du client, telles que SEMI E34, 1D et 2D, ce qui le rend adapté à diverses exigences du client. Optrix 3D/3000 Masque et Wafer Inspection Unit est l'outil de nouvelle génération pour l'inspection avancée des dispositifs semi-conducteurs. Il utilise l'éclairage directionnel et l'architecture d'imagerie 3D pour fournir une imagerie 3D précise et la détection automatisée des défauts. Il dispose d'une interface utilisateur intuitive et d'une suite d'algorithmes d'analyse d'image pour une précision maximale et assurer la traçabilité des résultats d'inspection. Cette machine est idéale pour diverses applications d'inspection de dispositifs semi-conducteurs, fournissant un rendement et un débit améliorés.