Occasion SLD FGN-20 #9268535 à vendre en France

SLD FGN-20 Masque et Wafer Inspection Equipment est un système automatisé conçu pour inspecter les masques et les wafers. Avec son optique haute performance, ses algorithmes avancés et son traitement de la vision à la pointe de la technologie, l'unité est capable d'inspecter les masques et les plaquettes rapidement et avec précision. La machine commence par prendre une image amont d'un masque et d'une plaquette, enregistrée sur son appareil photo numérique intégré de 5 mégapixels. Cette image est ensuite analysée au moyen d'algorithmes sophistiqués de reconnaissance de motifs, afin de détecter d'éventuels défauts et anomalies dans les masques et les plaquettes. Lors de la détection d'un défaut ou d'une anomalie, l'outil fournit un affichage 3D intégré avec des emplacements précis des défauts dans une carte complète des défauts. L'actif est également capable de fournir des fonctions étendues de traitement d'image, telles que l'application de filtres de couleur sur l'image ou la montée de signaux sur le moniteur, pour aider à identifier l'emplacement des défauts. FGN-20 est capable de détecter divers défauts et anomalies sur les masques et les plaquettes, y compris les rayures, les fosses et les taches. Il est également capable de détecter les variations de couleurs afin d'éviter les fausses alarmes de non-défauts. De plus, le modèle permet aux utilisateurs d'ajuster la sensibilité de l'équipement afin de détecter différents types de défauts et d'anomalies. Le logiciel intégré permet aux utilisateurs de gérer facilement le processus d'inspection, tout en leur permettant d'accéder aux données détaillées et de télécharger les résultats de l'inspection. Ces données peuvent être utilisées pour l'analyse et apporter des améliorations aux processus d'inspection et de production ultérieurs. De plus, le SLD FGN-20 peut être facilement intégré à d'autres systèmes d'inspection optique, ce qui permet d'améliorer la précision et la fiabilité du processus. Dans l'ensemble, FGN-20 Mask & Wafer Inspection System est une unité avancée et automatisée conçue pour faciliter un processus rapide et efficace d'inspection des masques et des plaquettes. Avec ses algorithmes efficaces et son traitement d'image sophistiqué, il est capable de détecter rapidement et avec précision divers types de défauts et d'anomalies. Son logiciel intégré facilite la gestion du processus d'inspection et l'accès aux données détaillées. En outre, la machine est facilement intégrée à d'autres systèmes d'inspection optique, ce qui permet aux utilisateurs d'augmenter encore la précision et la fiabilité du processus de production et d'inspection.