Occasion SVG / PERKIN ELMER / BSL OS 2000 #9162533 à vendre en France

ID: 9162533
Taille de la plaquette: 2"-4"
Style Vintage: 2011
Projection mask aligner, 2"-4" BETA SQUARED Control system Single windows based object-oriented computer BSL Automatic helium regulator Manuals Resolution: Lines spaces: 1.25 µm UV-4 (340-440 nm) Throughput: (120) Wafers per hour, 125/100 mm system Depth of focus: ±6 µm For 1.5 µm Lines and spaces Focus stability: ±2.0 µm Over 6 days Focus range: ±200 µm ±450 µm With extended bellows chuck Partial coherence: Variable, 0.37 - 0.86 Numerical aperture: 0.167 Uniformity of illumination: ±3.0% Particulate generation: (7) Particles per wafer pass (1.0 µm / Larger) Pre-alignment: 600 Style First-level placement accuracy: ±15 µm Wafer / Substrate sizes: 2" Standard: 4" 2011 vintage.
SVG/PERKIN ELMER/BSL OS 2000 est un équipement d'inspection de masques et de plaquettes conçu pour un usage industriel. Ce système effectue diverses mesures optiques, telles que l'identification des défauts de fonctionnalité et de masque, le contrôle de la qualité et la surveillance de la production, et plus encore. L'unité est composée de plusieurs composants, dont un microscope et une caméra numérique, une interface informatique, une étape de traduction spectrale et une source lumineuse. Le microscope de la machine est conçu pour fournir une image haute résolution, de contraste élevé de la plaquette ou du masque. Il est équipé d'un appareil photo numérique, qui est utilisé pour capturer des images de la plaquette ou du masque et les stocker sur l'ordinateur. Avec le microscope, de petits défauts et caractéristiques peuvent être détectés avec précision. L'étage de translation spectrale assure le déplacement afin que l'ensemble de la plaquette ou du masque puisse être inspecté. Cela permet une inspection plus précise des grandes surfaces et une meilleure comparaison des différentes images. La source lumineuse éclaire les plaquettes et les masques lors de l'analyse, permettant d'obtenir des images de contraste élevé. L'interface informatique permet d'importer des données dans SVG OS 2000 avant analyse. Cela permet la comparaison d'images et la détection et la classification automatiques des défauts. Le logiciel est chargé de divers outils pour aider au processus, tels que des histogrammes pour la comparaison d'images multiples, des algorithmes automatisés de détection de défauts, et divers autres outils pour l'analyse. Avec ce logiciel, la précision et la vitesse sont assurées. Enfin, l'outil peut être connecté à une variété d'autres instruments SVG pour des fonctionnalités supplémentaires. Il s'agit notamment des FIB (microscopes à faisceau d'ions focalisés), des systèmes CVD/PVD (systèmes chimiques de dépôt en phase vapeur et de dépôt physique en phase vapeur) et des outils de nettoyage. Tous ces éléments peuvent être utilisés pour assurer une surface uniforme et détecter les défauts éventuels sur la plaquette ou le masque. BSL OS 2000 est un atout complet pour effectuer des inspections de masques et de plaquettes haute résolution. Il est très facile à utiliser et peut être adapté à de nombreuses exigences industrielles et de recherche différentes. Avec son puissant microscope, sa source lumineuse, son étage de traduction spectrale, son appareil photo numérique et son logiciel, ce modèle est capable de détecter une multitude de défauts et de fonctionnalités rapidement et avec précision.
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