Occasion TKK MAC-92MV1 #9227386 à vendre en France

TKK MAC-92MV1 est un équipement avancé d'inspection des masques et des plaquettes conçu pour la production de semi-conducteurs. Il est capable de produire des mesures au niveau de la plaquette avec une résolution latérale maximale de 0,08 micron et supporte une large gamme de modes d'imagerie, y compris haute résolution, champ sombre, champ lumineux et RVB. Le système est équipé d'une capacité d'enregistrement automatisé des images qui peut capturer et aligner les images en fonction du placement des caractéristiques du masque, donnant une grande précision et répétabilité au processus d'inspection. Cette unité dispose également d'une fonction de sensibilité aux seuils, permettant aux utilisateurs de contrôler les niveaux de reconnaissance des motifs et de réaction. MAC-92MV1 est équipé d'optique avancée et de traitement numérique du signal. Ses lentilles Nikkor, ses caméras numériques et son capteur CCD linéaire offrent une résolution d'imagerie de 4.8um avec une sensibilité, une clarté et une précision inégalées. La machine utilise des algorithmes avancés de traitement d'images pour identifier et analyser les caractéristiques de détection et de classification des défauts. L'interface graphique tactile conviviale simplifie le fonctionnement et offre aux utilisateurs une large gamme de fonctions de mesure et d'affichage. L'outil peut stocker des résultats d'inspection, des images de fonctionnalités et des images numériques de réticules, permettant aux utilisateurs d'examiner rapidement et de réagir à tout défaut détecté. L'actif est également adapté pour l'inspection à double couche avec la possibilité de sélectionner des éléments de la couche supérieure ou inférieure. TKK MAC-92MV1 offre plus de capacités que les systèmes traditionnels d'inspection des plaquettes. Il est conçu pour traiter des défauts complexes tels que les ponts métalliques et la contamination des particules, et fournit une plate-forme complète pour soutenir chaque étape du processus de production de photomasques. Ce modèle permet aux opérateurs de surveiller instantanément la qualité d'un processus de production de masques et peut être utilisé pour réduire les coûts de main-d'œuvre et minimiser les temps d'arrêt.