Occasion TOSHIBA / NUFLARE NPI-5000-257 #9245472 à vendre en France

TOSHIBA / NUFLARE NPI-5000-257
ID: 9245472
Style Vintage: 2017
Mask inspection system 2017 vintage.
TOSHIBA/NUFLARE NPI-5000-257 Masque et Wafer Inspection Equipment est une machine innovante et puissante conçue pour l'inspection de haute précision des substrats de masque et de wafer. Il est conçu pour détecter un large éventail de défauts, sur une variété de substrats, à la fois dans les modèles de filière et de circuit. Le système TOSHIBA NPI-5000-257 est composé de trois composants principaux : un module d'imagerie avancée, une suite logicielle haut de gamme et un microscope optique avancé. Le module d'imagerie a une vitesse de balayage jusqu'à 8,5 images/seconde permettant une imagerie rapide et précise des substrats. Il contient également un étage motorisé à 5 axes pour permettre un positionnement précis du substrat lors du balayage. La suite logicielle comprend des algorithmes avancés qui permettent à l'unité de détecter différents types de défauts, tels que des fissures, microrétractation, vides, contamination particulaire, variations normales, etc.. Ces algorithmes sont également utilisés pour analyser et comparer les différentes caractéristiques de chaque substrat pour identifier les défauts avant qu'ils ne soient visibles à l'œil nu. Pour faciliter l'interprétation des résultats, la suite logicielle dispose d'une interface utilisateur intuitive permettant une navigation et un contrôle faciles de la machine. Le microscope est chargé de fournir l'amplification d'image et le contraste nécessaires à l'outil pour détecter et identifier les défauts. Il est conçu pour maximiser la clarté de l'image en utilisant des techniques sophistiquées d'optique et de traitement d'image. Le microscope offre également un large champ de vision pour les substrats de grande taille et une résolution de niveau de précision pour les défauts critiques. NUFLARE NPI-5000-257 Masque et Wafer Inspection Asset est rapide et précis, fournissant une assurance qualité exceptionnelle pour le masque et les substrats de wafer. Ses logiciels avancés et ses modules d'imagerie assurent une inspection complète et fiable des défauts, tandis que son puissant microscope augmente considérablement la précision. Le modèle est donc inestimable pour un large éventail d'applications d'inspection, et est fortement recommandé à des fins d'assurance de la qualité.
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