Occasion ULTRAPOINTE 1000 #9026314 à vendre en France

ULTRAPOINTE 1000 est un équipement d'inspection des masques et des plaquettes conçu pour l'imagerie et l'analyse haute résolution des photomasques, des photomasques à semi-conducteurs et des plaquettes à semi-conducteurs. Le système est capable d'inspecter les plaquettes à une résolution maximale de 3,3 µm, avec une excellente précision et répétabilité. 1000 tire parti de la technologie révolutionnaire d'inspection des masques et des plaquettes pour fournir des performances inégalées en scannant des photomasques et des plaquettes avec une grande précision et répétabilité. L'unité se compose d'un pas de plaquette, d'une ou plusieurs caméras haute résolution, d'une interface lentille/optique et d'une machine informatique d'analyse et d'acquisition d'images. Le pas de plaquette fournit un mécanisme robotique avec la capacité d'aligner avec précision, composants optiques, et caméras. Les caméras CCD haute résolution, montées sur le pas, acquièrent des images du haut et du bas de la plaquette pour analyse. Le pas de la plaquette est stabilisé par une paire d'isolateurs antivibratoires pour assurer la stabilité du processus de capture sur la surface plane de la plaquette. ULTRAPOINTE 1000 dispose d'une optique très efficace, fournie par des composants de précision qui offrent une résolution jusqu'à 3,3 μ m. Un outil optique grand angle est utilisé pour maximiser le champ de vision, permettant d'analyser simultanément plusieurs points d'inspection masque/plaquette. L'interface lentille/optique est montée directement sur l'étage de la plaquette, ce qui permet de régler précisément le champ de balayage optimal. L'outil informatique d'analyse et d'acquisition d'images fournit des outils logiciels puissants qui permettent une analyse rapide et précise des images. Les algorithmes 3D avancés permettent la reconnaissance des défauts et l'inspection des plaquettes pour les défauts courants tels que les rayures, la poussière, les particules et d'autres contaminants. Le modèle d'inspection de 1000 masques et plaquettes fournit la précision, la répétabilité et la haute résolution requises par le procédé moderne de fabrication des semi-conducteurs. Son équipement d'optique et d'analyse d'image de pointe offre des performances inégalées en inspection photomasque et wafer. En utilisant le système, les fabricants de semi-conducteurs sont en mesure de détecter rapidement les problèmes, ce qui entraîne une production plus rapide, des marchandises à moindre coût et, en fin de compte, une meilleure livraison de produits semi-conducteurs de haute qualité sur le marché.