Occasion VISTEC LWM9000 #293589506 à vendre en France
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ID: 293589506
Taille de la plaquette: 6"
Style Vintage: 2006
CD Measurement system, 6"
2006 vintage.
VISTEC LWM9000 est un équipement complet d'inspection de masques et de plaquettes conçu pour l'analyse automatisée de photomasques ou de grandes plaquettes pour les environnements de production et de laboratoire. Avec son design de tête optique innovant, le masque LWM9000 et le système d'inspection des plaquettes est capable de fournir une résolution jusqu'à 0,35 microns, permettant une analyse détaillée et des mesures des caractéristiques critiques. L'unité dispose d'une technologie d'imagerie avancée pour identifier les défauts, les distorsions et d'autres anomalies dans les surfaces des masques et des plaquettes. VISTEC LWM9000 est équipé de trois capteurs optiques - CD-SEM (microscopie électronique à balayage), CD-AFM (microscopie à force atomique) et métrologie hiérarchique à un atome - qui peuvent évaluer collectivement le masque et le motif de la plaquette avec une grande précision. Pour l'imagerie CD-SEM, le dispositif est capable d'obtenir des images en trois grossissements différents, allant de 0,25 à 0,35 microns. La fonction CD-AFM permet des mesures rapides et précises des couches minces, des structures conductrices et des couches semi-conductrices. La fonction de métrologie mono-atome hiérarchique permet aux utilisateurs de détecter les plus petites structures possibles sur des structures avec plus de 90 % de précision. LWM9000 offre des modalités de photomasque évolutives et définies par l'utilisateur et comprend une interface utilisateur intuitive et graphique. Cela permet des mesures rapides et précises et l'intégration de données de simulation et de mise en page de masques spécifiques au client. Le dispositif offre également un contrôle automatisé des étages pour un positionnement rapide, permettant une analyse rapide et efficace des ensembles de données grands ou segmentés. Il dispose d'une polyvalence de mouvement automatique, permettant un positionnement multiple et un balayage continu du masque ou de la plaquette, même dans le plan ou sur plusieurs plans. VISTEC LWM9000 dispose d'un logiciel puissant et facile à utiliser pour les utilisateurs et les développeurs. Le logiciel offre un environnement polyvalent et convivial pour la production et l'inspection de laboratoire, permettant aux utilisateurs de personnaliser la machine et d'exécuter des contrôles et des acquisitions automatiques d'alignement. Il offre également l'annotation d'experts, l'analyse de patch, ainsi que des commandes de script avancées et des capacités de traitement de lots, fournissant ainsi un fonctionnement efficace et précis. En outre, l'appareil dispose d'une base de données intégrée qui permet aux utilisateurs de stocker, récupérer et comparer les données de masque et de plaquette. En conclusion, LWM9000 est un outil d'inspection avancé conçu avec les dernières technologies d'imagerie et de métrologie. C'est un excellent choix pour la production et les utilisations en laboratoire, offrant des capacités d'imagerie avancées et l'automatisation pour l'analyse rapide et précise des photomasques ou des plaquettes. L'appareil est également très convivial, permettant une personnalisation et une analyse experte des ensembles de données grands ou segmentés.
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