Occasion ZEISS AIMS 193 #9095595 à vendre en France

ZEISS AIMS 193 Mask & Wafer Inspection Equipment est un système multifonctionnel automatisé conçu pour répondre aux exigences de l'inspection et de la caractérisation des masques et des plaquettes. Cette unité combine la fonctionnalité de la métrologie optique et électrique pour faciliter la détection des défauts et la caractérisation des dispositifs semi-conducteurs. Les caractéristiques clés de la machine sont son optique d'imagerie haute performance et l'électronique d'imagerie, qui sont utilisés pour inspecter et caractériser les plaquettes et les masques à des grossissements élevés. L'outil permet d'observer une grande variété de défauts critiques sur les masques et les plaquettes avec une très grande précision. L'actif permet également de mesurer divers paramètres, notamment la précision de l'alignement des superpositions, la compatibilité des processus et la performance des appareils électriques. Les capacités d'imagerie optique du modèle sont encore améliorées par ses puissants algorithmes de traitement d'image. Ces algorithmes permettent à l'utilisateur d'identifier des défauts subtils sur des plaquettes et des masques avec un haut niveau de précision. De plus, l'équipement comprend de puissantes fonctions d'analyse et de rapport qui permettent aux utilisateurs de suivre, d'analyser et de rendre compte des inspections et des résultats. Le système est très configurable et convivial. Sa construction robuste assure une fiabilité de fonctionnement et sa conception ergonomique le rend confortable à utiliser. AIMS 193 Masque et Wafer Inspection Unit est un outil puissant et polyvalent pour effectuer diverses tâches d'inspection et de caractérisation des masques et des wafers. Il fournit précision, vitesse et fiabilité pour une variété d'applications de semi-conducteurs.