Occasion ZEISS / HSEB ZML-200 #9249419 à vendre en France

ZEISS/HSEB ZML-200 est un équipement d'inspection de masque et de plaquettes leader dans l'industrie qui offre des performances supérieures dans le domaine difficile de la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Avec jusqu'à 200 wafers par heure de débit, le système gère efficacement l'inspection des séries de production à haut volume. HSEB ZML-200 utilise une caméra CCD haute résolution pour scanner chaque masque ou plaquette, la recherche de tous les défauts qui peuvent n'avoir pas été remarqués dans le processus de fabrication. En utilisant un algorithme intégré de détection des défauts et une interface utilisateur personnalisée, l'unité peut rapidement identifier même les plus petits défauts dans les masques ou les plaquettes. La machine est également conçue pour être facile à utiliser et à action rapide, permettant aux utilisateurs de faire des diagnostics rapides et précis du masque ou de la plaquette à inspecter. Pour améliorer encore la vitesse et la précision de l'outil, l'actif est équipé d'un modèle avancé de contrôle de focalisation de haute précision. Cet équipement se concentre rapidement sur toutes les caractéristiques du masque ou de la plaquette, permettant des inspections point à point ou zone à zone rapides. Le système dispose également de la capacité de tester plusieurs recettes de dispositifs semi-conducteurs afin d'assurer un rendement maximal des produits. En surveillant un réseau complexe de couches métalliques et isolantes, l'unité est en mesure de détecter un large éventail de défauts, y compris des variations de largeur de ligne, des raccourcis, des ouvertures, des défauts isolés et des surcharges. La machine dispose également d'une multitude de fonctions d'auto-test, garantissant que tout entretien est correctement terminé. Enfin, ZEISS ZML-200 est équipé de nombreux logiciels qui permettent aux utilisateurs de personnaliser son fonctionnement. Avec le logiciel intégré d'analyse des défauts, les utilisateurs peuvent enregistrer et stocker les données des inspections. En outre, l'outil est équipé d'un logiciel d'optimisation de la reconnaissance des motifs afin que l'actif puisse constamment apprendre et modifier ses paramètres de filtrage en fonction de l'entrée de l'utilisateur. En conclusion, ZML-200 est un modèle d'inspection des masques et des plaquettes leader dans l'industrie qui est conçu pour maximiser les rendements de production, réduire les coûts et réduire le temps consacré à l'inspection des masques ou des plaquettes. Avec des fonctionnalités haut de gamme telles que l'imagerie CCD haute résolution, une interface utilisateur personnalisée et un logiciel d'analyse des défauts de pointe et d'optimisation de la reconnaissance des motifs, ZEISS/HSEB ZML-200 est le choix idéal pour toute installation de fabrication de dispositifs semi-conducteurs.