Occasion ZYGO NewView 100 #85137 à vendre en France

ZYGO NewViewTM ZYGO NewView 100 Masque et Wafer Inspection équipement est une solution d'imagerie haute résolution à base de microscopie optique conçue pour inspecter chaque élément de photomasques et de plaquettes semi-conducteurs. Il dispose d'une grande table d'imagerie motorisée 5 axes avec un alignement de précision et un système de rangement de plaquettes qui assure la précision et la répétabilité. Le NewViewTM ZYGO 100 comprend également une interface utilisateur intuitive et un logiciel automatisé d'inspection et d'identification des défauts, garantissant des résultats rapides et efficaces. L'unité a un microscope à angle de vue de 45 degrés, avec une résolution latérale de 1,2 μ. Il a un grossissement maximum de 2000X, et une machine d'imagerie numérique rapide qui utilise une caméra CMOS couleur 24 bits. Les capacités automatisées de capture et d'analyse d'image de l'appareil lui permettent d'identifier rapidement et avec précision les défauts éventuels sur un photomasque ou une plaquette. Il est également capable de détecter des défauts clairs dans une seule exposition, et peut identifier des défauts complexes qui nécessitent de coudre plusieurs images d'une même plaquette. Le NewViewTM NEWVIEW100 dispose d'un outil intégré de détection optique numérique (DOS) de 4 mégapixels pour les mesures de métrologie optique sans contact. Cela permet une analyse complète et précise des géométries des masques ou des plaquettes, ainsi que l'identification des défauts dans un large éventail de caractéristiques visuelles et structurelles. Il a même la capacité de mesurer l'uniformité des couches et l'intégrité des bords de chronique en 0,1 nm de résolution. Cet outil d'inspection vidéo est conçu pour l'isolation et l'analyse rapides des défauts. Le modèle peut être utilisé pour la détection des défauts, la caractérisation des défauts, la comparaison entre les masques et les analyses automatisées des flux de processus. En outre, il peut être utilisé pour évaluer la performance de la photolithographie, la rugosité des bords de ligne et la fidélité des motifs des photomasques et des plaquettes pendant la fabrication. ZYGO NewViewTM NewView 100 est un équipement d'imagerie et de métrologie haute performance offrant des performances exceptionnelles et des résultats précis. L'interface conviviale, l'identification automatisée des défauts et les capacités d'analyse intuitive du système assurent une inspection rapide et efficace des masques semi-conducteurs et des plaquettes.