Occasion CREATEC FISCHER Molecular Beam Epitaxy (MBE) system #293759777 à vendre en France
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ID: 293759777
Process: GaAs
Small load lock chamber
Fore vacuum pump
(2) Turbo-molecular pumps (Pfeifer vacuum)
Vacuum pump station
Integrated fore vacuum pump
Turbo-molecular pump
Power supply and controller (Pfeifer vacuum)
(2) Ion-getter pump (Meca 2000, Vinci)
(2) Titanium sublimation pumps
(5/6) Vacuum valves (VAT Group)
(3) Transfer arms
(2) Manipulators
(2) sample holders (Temperature range 0-950°C) with in-plane sample rotation
(2) UHV Chambers
Chamber heater (With power supply) for UHV Vacuum (10^-11 mbar)
(3) Effusion cells (Ga, As, metal)
(2) Electron beam guns
Quadrupole mass spectrometer for both e-guns for growth control
Quartz crystal monitor for thickness control
Power supplies
Controllers
Manuals.
CREATEC FISCHER L'équipement MBE (Molecular Beam Epitaxy) est un outil de pointe utilisé dans le domaine de la recherche et du développement de semi-conducteurs. MBE est une technique très précise pour déposer des couches minces de matériaux sur un substrat avec contrôle au niveau atomique, ce qui le rend idéal pour créer des structures semi-conductrices de haute qualité pour des dispositifs électroniques et optoélectroniques avancés. Le système CREATEC FISCHER MBE est connu pour ses performances exceptionnelles et sa polyvalence dans des hétérostructures complexes de semi-conducteurs en croissance avec une précision et une uniformité inégalées. Cette unité est conçue pour répondre aux exigences exigeantes des laboratoires de recherche et des usines de fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Au cœur de la machine MBE se trouve une chambre à vide ultra-élevé (UHV) équipée de cellules à effusion multiple, d'évaporateurs de faisceaux d'électrons et d'autres sources de dépôt pour la croissance de couches minces de divers matériaux élémentaires et semi-conducteurs composés. L'environnement UHV assure un processus de croissance sans contamination, essentiel pour obtenir des couches épitaxiales de haute qualité avec des structures cristallines bien définies. L'une des caractéristiques clés de l'outil CREATEC FISCHER MBE est son atout de contrôle sophistiqué qui permet aux chercheurs d'ajuster avec précision les conditions de croissance telles que la température du substrat, les débits des matériaux sources et les taux de dépôt. Ce niveau de contrôle permet la croissance épitaxiale de structures multicouches complexes aux propriétés sur mesure, y compris des puits quantiques, des points quantiques et d'autres nanostructures aux caractéristiques électroniques et optiques uniques. De plus, le modèle MBE est équipé d'outils de surveillance et de caractérisation in situ tels que la diffraction électronique à haute énergie de réflexion (RHEED), la spectroscopie électronique d'Auger (AES) et la spectrométrie de masse, permettant une rétroaction en temps réel sur le processus de croissance et assurant la qualité des couches épitaxiales déposées. Les équipements CREATEC FISCHER MBE offrent également des capacités avancées pour doper les matériaux semi-conducteurs avec des concentrations précises d'impuretés pour modifier leurs propriétés électriques. En incorporant des dopants au cours du processus de croissance épitaxiale, les chercheurs peuvent adapter les concentrations et les mobilités des couches semi-conductrices aux applications spécifiques des dispositifs, comme les transistors à grande vitesse, les diodes électroluminescentes (LED) et les cellules photovoltaïques. En outre, le système MBE soutient l'intégration de techniques de dépôt multiples, telles que l'épitaxie par faisceau moléculaire, le dépôt chimique en phase vapeur (MOCVD) et le dépôt laser pulsé (PLD), offrant aux chercheurs une plate-forme polyvalente pour explorer une vaste gamme de combinaisons de matériaux et d'architectures de dispositifs. En résumé, l'unité CREATEC FISCHER MBE représente un outil de pointe pour la croissance épitaxiale de matériaux semi-conducteurs avec une précision et un contrôle exceptionnels. Ses fonctionnalités avancées, y compris la conception de chambres UHV, les capacités de surveillance in situ et les fonctionnalités de dopage, en font un atout précieux pour les chercheurs et les ingénieurs travaillant sur le développement de dispositifs semi-conducteurs de nouvelle génération avec des propriétés et des performances sur mesure.
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