Occasion CUSTOM / NEXGEN 440 S1 MBE #9233063 à vendre en France
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ID: 9233063
MBE Growth chamber
For eBeam deposition of metals
With loadlock
VEECO GEN II Manipulator
Includes:
(2) THERMIONICS LAB INC / TLI HM2 Series eGun TM
(2) 10CC Crucibles with 8" OD CF mounted
(2) Pneumatic shutters
(2) Water interlock switches
Switching e-Gun power supply: 15 kW
Gun controllers filament transformer & cables
(2) X-Y Beam sweep controllers
Flux monitor sigma EIES guardian
RHEED kSA 400
With 30eV power supply
STAIB Gun computer controller
With remote control box
VEECO CAR 3" Dual zone with heater
Power supplies
Controller
Substrate rotation & angle to evaporation / Loading
PFEIFFER MVP 070-3 Diaphragm vacuum pump
PFEIFFER Mechanical-turbo pump with DCU
(2) MKS 999 Quattro
EXTORR XT100 Residual gas analyzer
GRANVILLE PHILLIPS 350 Ionization gauge & controller
NESLAB HX300 E-Guns chiller
OXFORD INSTRUMENTS Cryo-Plex 8, Diode, UHV with burst disc
PFEIFFER MVP 070-3 Diaphram vacuum pump
Holding system at 10-kelvin
Chamber & E-Gun cooling
Manuals
Does not include:
MKS Microvision 1-6AMU RGA
Atomic hydrogen source with automated valve positioner
Chiller for sample & H+ source cooling
Chiller for main chamber cooling
LESKER LVM940 Leak valve
PC System
(2) XHR 60-18 XANTREX power supplies
(3) EUROTHERM controllers
Optitherm III Optical fiber pyrometer
Temperature range: 600°C to 1500°C
GAMMA Vacuum ion pump
150T
Titan DI
(6) CFF
VAT Valve.
L'équipement CUSTOM/NEXGEN 440 S1 MBE est un système d'épitaxie par faisceau moléculaire de pointe qui est utilisé dans l'étude de la croissance et de la caractérisation des films semi-conducteurs ultra-minces (épaisseur inférieure à 1 μ m). Il s'agit d'une unité polyvalente d'épitaxie multi-barrières avec une configuration évolutive et comprend des composants tels qu'une chambre de verrouillage de charge, un kit de pulvérisation, un canon à faisceau électronique, des éléments chauffants, un dépôt à double source en mode mixte source et un contrôleur de machine intégré UHV. La chambre de verrouillage de charge est utilisée pour minimiser l'introduction de gaz et la contamination et maintenir un UHV stable dans la chambre à vide principale. Cela permet également de déposer plusieurs échantillons d'essai dans une même campagne. Le kit de pulvérisation permet d'étudier des métaux tels que le titane, l'argent, le molybdène et le palladium en utilisant une cible multi-poches. Le canon à faisceau électronique est également utilisé pour évaporer les matériaux du substrat au besoin. De plus, les éléments chauffants sont utilisés pour aider à la croissance de structures plus complexes telles que des bicouches, tandis que le dépôt à double source assure une composition précise et un profil de couche de matériau déposé en mode source-mélange pour des structures multi-alliages. En dehors de ceux-ci, l'outil CUSTOM 440 S1 MBE utilise également un contrôleur d'actifs UHV puissant. Cela permet un fonctionnement automatisé et un contrôle précis de tous les paramètres de vide et de dépôt, l'enregistrement des données, le contrôle opérationnel dépendant du temps et bien plus encore. Cela permet également de surveiller les paramètres en temps réel, tant pour l'état du modèle que pour le dépôt des matériaux, afin d'assurer des expériences précises et des résultats précis. De plus, le dépôt à double source en mode mixte-source permet un meilleur contrôle des profils de couches, de la température, de la composition, et facilite la manipulation ultérieure du matériau déposé, par exemple avec gravure anisotrope. De plus, il offre également une meilleure précision dans la croissance de structures complexes telles que des points quantiques. Bref, l'équipement NEXGEN 440 S1 MBE est un outil avancé utilisé pour étudier la croissance et la caractérisation des films ultra-minces. Il utilise un système multi-barrières polyvalent, avec un contrôleur UHV intégré, divers composants de chauffage, kit de pulvérisation et un puissant canon à faisceau électronique. Avec sa conception sophistiquée, il assure un contrôle précis des paramètres et des couches de dépôt et offre des outils avancés pour la gravure et la manipulation des matériaux déposés. Cela le rend idéal pour la recherche et le développement de matériaux pour les nanodévices et les applications électroniques.
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