Occasion OXFORD / VG SEMICON V100 #9036615 à vendre en France

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ID: 9036615
Taille de la plaquette: 5x3"
Style Vintage: 2010
3-Stage Molecular Beam Epitaxy (MBE) System Currently configured for 5x3" wafers Other capabilities : 1x6", 3x4", 5x3" or 12x2" substrate wafers at a time CBr4 Source Deposition chamber Preparation chamber with (2) fast entry locks Outgas stage System bench Control rack Computers Custom control software or OEM Control Rack Modules UHV Pressure Controllers Shutter Controls Valve Controls Transfer Controls, Pumpdown / Vent Controls RHEED Gun Supply RGA and temperature monitoring 4- Loop Thyristors UPS Interface Multi-Gauge, Autoranging Picoammeters (1) SRS RGA200 Quadruple Mass Spectrometer (1) Applied Epi RF Plasma Source Tuning Unit (3) Powerware Prestige EXT UPS Supplies (1) Neslab CFT-150 Recirculator (1) CTI 9600 Compressor (3) Busch Diaphragm Pumps (4) Heavy-Duty Transformers Liquid Nitrogen System Components Continuous power supply battery back up LN2 phase separator Controllers Pumps Manuals 415V, 50/60Hz.
OXFORD/VG SEMICON V100 est un équipement sophistiqué d'épitaxie par faisceau moléculaire (MBE), conçu pour les procédés avancés de dépôt de couches minces. Il utilise la technologie du vide élevé, de la basse pression et du vide ultra-élevé combiné à une foule très fiable de procédés spécifiques à l'application. OXFORD V100 offre une gamme de capacités de processus, tels que des processus de fixation de surface étendue, des processus de croissance de couche de conduction et des finitions de surface de haute qualité. Ces procédés sont basés sur des techniques d'épitaxie par faisceau moléculaire, où un film mince d'un matériau désiré est déposé sur un substrat au niveau d'une chambre à ultra-haut vide. Le substrat, chauffé à la température appropriée, est exposé aux faisceaux incidents de molécules précurseurs qui s'évaporent à l'aide d'un faisceau d'électrons de haute intensité et d'autres sources. VG SEMICON V100 fournit deux chambres à ultra-haut vide isolées pour une homogénéité de processus fiable et répétable, toutes deux équipées de différents ensembles de modules de processus pour assurer un contrôle optimal des paramètres souhaités tels que la vitesse de dépôt, la pression ambiante, la température du substrat et plus encore. Il dispose également de modules électriques, d'un module de chauffage et d'un puissant module de thermocouple pour contrôler et réguler avec précision l'uniformité de température à l'intérieur de la chambre. V100 dispose d'une multitude de fonctions avancées de contrôle des processus. Cela comprend un système d'injection multiple de gaz, qui permet de délivrer plusieurs gaz pour une large gamme de gaz d'une manière hautement contrôlée, le contrôle automatique du débit des gaz, le contrôle de l'intensité et de la taille du faisceau d'électrons, et une gamme de paramètres de processus pour surveiller avec précision les processus de démarrage, de stabilisation et de fin du processus. OXFORD/VG SEMICON V100 est le choix idéal pour les utilisateurs qui ont besoin d'une unité MBE de haute précision, avancée et fiable pour le dépôt de couches minces. Les caractéristiques de cette machine permettent une gamme élargie de capacités d'application telles que la production de semi-conducteurs, la production de médicaments et de biotechnologie, l'électronique de pointe, l'opto-électronique, l'affichage à écran plat, entre autres. Le contrôle amélioré des procédés fourni par OXFORD V100 assure un dépôt fiable et répétable de films de qualité absolue.
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