Occasion RIBER 19C #9100829 à vendre en France

L'épitaxie par faisceau moléculaire (MBE) est une technologie de procédé sophistiquée utilisée pour déposer des couches semi-conductrices en couches minces sur des substrats pour l'optoélectronique et d'autres dispositifs microélectroniques. RIBER 19C est un équipement MBE basé sur la technologie des cellules d'effusion Knudsen construite par RIBER S.A., un fabricant français de systèmes MBE. Le système 19C comprend trois composants de base : une chambre à ultra-haut vide (UHV), un logiciel de contrôle convivial et une gamme de modules sources. La chambre UHV est conçue pour un fonctionnement fiable et efficace, avec une fenêtre de visualisation à quartz, des contrôleurs mécaniques de jauge, et une unité de thermocouple avancée qui peut mesurer la température de chaque source à 0,1 ~ K. L'intégration avec des fours tiers permet de produire une large gamme de couches semi-conductrices sur différents substrats. L'interface utilisateur du logiciel RIBER 19C offre un moyen facile et fiable de contrôler la machine. Doté d'un écran tactile et d'une interface graphique, il permet à l'utilisateur d'ajuster les débits, les angles de tournage, la température, la pression, les poids de tare et les paramètres de fonctionnement. En outre, le logiciel comprend une capacité personnalisable d'enregistrement et d'automatisation des données, permettant un fonctionnement à distance ou autonome. 19C dispose également d'une gamme avancée de modules sources. Son module de source à deux soupapes et quatre gaz permet de réguler avec précision les flux de gaz dans de multiples combinaisons valve/gaz. Il est capable de contrôler jusqu'à six gaz avec 16 valves individuelles permettant le contrôle posologique de molécules précises. De plus, son module source rotatif breveté permet aux utilisateurs de déposer en continu des films sans modifier le nombre de vannes dans le mélange, pour un contrôle précis des propriétés du film. De plus, son module source de trois filaments permet de contrôler et de maintenir avec précision une large gamme de températures. Cet outil est couramment utilisé pour déposer un large éventail de matériaux allant des composés élémentaires (tels que les composés de l'arsenic) aux composés III-V. Enfin, son module source chauffé par résistance permet de transférer avec précision des matières volatiles telles que des composés III-V et II-VI sans décomposition. Dans l'ensemble, RIBER 19C est un actif MBE avancé bien adapté à la production de couches semi-conductrices à couches minces performantes et fiables. Il fournit un modèle UHV fiable et efficace, un logiciel convivial et une large gamme de modules sources pour un contrôle précis et précis des propriétés des couches. Cet équipement a été utilisé avec succès dans la fabrication de divers dispositifs optoélectroniques et microélectroniques.