Occasion RIBER 49 #9395706 à vendre en France

ID: 9395706
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2001
Molecular beam epitaxy system, 8" Materials: Indium, GaAs, Aluminum Operated with programmable shutter controller Max substrate temperature: 1000°C Manipulator: LN2 Cooled As and Sb Crackers included (16) Supplies for cells (3) Prep chamber heater and manipulator (3-4) Spare controllers (2) Ports: 3"-6" 7"-8" 2001 vintage.
RIBER 49 est un équipement d'épitaxie par faisceau moléculaire (MBE) fabriqué par RIBER SAS. MBE est une méthode de production de films minces monocristallins de haute qualité dans une atmosphère contrôlée, au niveau microscopique. Il est utilisé dans les industries des semi-conducteurs et de l'optoélectronique pour la production de divers matériaux tels que le silicium, l'arséniure de gallium, le nitrure de gallium et le phosphure d'indium. De plus, 49 peuvent être utilisés pour la fabrication de graphène, d'oxydes de métaux de transition et de points quantiques. RIBER 49 se compose de quatre composants principaux : une chambre Ultra High Vacuum (UHV), une station Ultra High Vacuum (UHVS), un évaporateur de faisceau d'électrons et un moniteur de croissance. La chambre UHV est conçue pour fonctionner avec une pression de vide de 1x10-9 torr. Ceci fournit un environnement très propre pour la formation de monocristaux et élimine la contamination de l'air et d'autres molécules dans l'atmosphère. L'UHVS est l'unité de commande principale qui abrite tous les composants du système et fournit un accès facile à la chambre pour la manipulation des échantillons. L'évaporateur à faisceau d'électrons permet de contrôler la vitesse de dépôt du matériau source sur le substrat et de réduire la diffusion hors axe. Enfin, le moniteur de croissance fournit des données en temps réel sur le processus de croissance cristalline, telles que la pression, le mouvement et la température de la chambre UHV. 49 est très efficace et rentable par rapport aux autres systèmes MBE, car il peut produire des films minces de haute qualité en une fraction du temps. De plus, l'UHVS fournit un contrôle précis de la pression et de la température dans la chambre UHV, tout en fournissant un affichage puissant et une unité de contrôle fiable pour l'utilisateur. RIBER 49 peut traiter des substrats jusqu'à 4 pouces de diamètre et peut accueillir plusieurs conceptions de configuration et de contrôle. La machine est très adaptable et peut être utilisée pour fabriquer un large éventail de matériaux et de structures. Enfin, le logiciel intégré de 49 fournit une interface facile à utiliser, permettant aux utilisateurs de surveiller les données du processus de croissance des cristaux en temps réel. En conclusion, RIBER 49 est un outil efficace et économique pour la production de films minces monocristallins dans un environnement contrôlé. Il est bien adapté aux industries des semi-conducteurs et de l'optoélectronique et peut être utilisé pour la fabrication d'une grande variété de matériaux. En outre, le logiciel intégré fournit une interface intuitive avec des données en temps réel, permettant un contrôle précis et précis sur l'ensemble du processus.
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