Occasion RIBER Compact 21 #9263066 à vendre en France
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Vendu
ID: 9263066
Epitaxial reactor
R&D System, 10-Port
P/N: 608-405-32 W
HP / HEWLETT-PACKARD Z840 PC
ADVANTECH 610H Industrial computer
MOBILE PANEL Hand held controller
Bakeout control unit
(2) VEECO AT6VSP Plasma sources
Pump:
AGILENT / HP / HEWLETT-PACKARD / KEYSIGHT TwisTorr 304 FS Turbo pump
RIBER Ion pump
BROOKS / CTI CRYOGENICS Cryo-Torr High vacuum pump
BROOKS / CTI CRYOGENICS 8220 Compressor
THERMO SCIENTIFIC NESLAB III Heat exchanger
ADIXEN Vacuum pump with MicroTorr 11 Vacuum
(3) GRANVILLE / PHILLIPS / BROOKS AUTOMATION 350 Ionization gauge controllers
(10) TDK / LAMBDA Uninterruptible Power Supplies (UPS)
GAMMA Vacuum digital pump
Power supply:
VEECO RF 600 Power supply
VEECO RF 601 Power supply
(2) VEECO RF Matching network controllers
RHEED Power supply
LAKESHORE Temperature controller
FRANKLIN ELECTRIC 1201006416 Scroll pump.
L'équipement RIBER Compact 21 Molecular Beam Epitaxy est un appareil spécialisé conçu pour le dépôt de couches minces dans un environnement très contrôlé. Le système est une machine compacte et peu coûteuse qui permet le dépôt de couches minces à une ou plusieurs couches. Il est conçu pour fonctionner à la fois dans des environnements de traitement à ultra-haut vide et haute pression. Compact 21 dispose de plusieurs technologies avancées qui lui permettent de réaliser des films minces de haute qualité. Il s'agit notamment d'une plaque de base polie optiquement, d'une interface utilisateur pour un fonctionnement facile, d'un contrôleur de dépôt en couches minces très fiable et d'un interféromètre laser facile à utiliser. La machine est également équipée d'une unité de vaporisation des gaz et d'un dispositif de contrôle de la température pour assurer la vitesse de dépôt optimale et l'uniformité du film. RIBER Compact 21 est capable de produire jusqu'à huit monocouches de couches minces en une seule étape de dépôt. Il a la capacité de déposer à la fois des couches minces organiques et inorganiques, ainsi que des alliages et des oxydes. La machine dispose également d'un moniteur de vitesse de dépôt qui permet à l'utilisateur de s'assurer que la vitesse de dépôt souhaitée est atteinte. La machine inclut aussi deux 2.4V les alimentations électriques et deux 24V les alimentations électriques pour chauffer des composantes. Ceux-ci peuvent également être commandés depuis le contrôleur central permettant à l'utilisateur de programmer facilement son profil de température désiré. Dans l'ensemble, l'outil Compact 21 d'épitaxie par faisceau moléculaire est un excellent choix pour les chercheurs et les fabricants à la recherche d'une solution compacte et peu coûteuse pour le dépôt en couches minces. L'actif permet à l'utilisateur de produire des marchandises de la plus haute qualité et de la plus grande précision dans les spécifications requises.
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